Nonsequitur 20kV 離子槍 離子源 真空 1420

Nonsequitur 20kV 離子槍 離子源 真空 1420

20kV 離子槍

可調(diào)光斑尺寸 ≥ 5 微米，用于空間定義濺射或植入

發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流

連續(xù)可變的束流能量 5kV 至 20kV

用于束掃描和散光校正的雙倍極

預(yù)目標(biāo)掃描可縮小光斑尺寸

沒有燈絲與樣品的直接視線，以避免樣品污染

客戶可更換燈絲和光束微調(diào)孔

雙燈絲可在燈絲壽命終止時(shí)提供運(yùn)行備份

所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料均用于制造

差分泵送，最大限度地減少主室氣體負(fù)荷

可在惰性氣體和氮?dú)夥秶鷥?nèi)運(yùn)行

模式 光斑尺寸 (µM FWHM) 光束電流 (µA) 電流密度 (A/cm2)

小光斑 8 0.5 1

中型光斑 15 5 2.8

大光斑 40 20 1.5

Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質(zhì)譜 雙等離子發(fā)射器 真空測(cè)試 真空系統(tǒng) 真空腔 真空表面化學(xué)實(shí)驗(yàn) 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器