從樣品表面改質(zhì)到清洗的小型臺式等離子清洗機。

半導(dǎo)體制造中的光刻膠剝離或表面殘留物去除、印刷電路板的干式清洗、光學(xué)/金屬/機械等精密部件的清洗、提高各種材料的粘接性、塑料封裝前處理、表面改質(zhì)處理、灰化、蝕刻處理、界面活性處理、促進(jìn)種子發(fā)牙等。

適用行業(yè)

高校、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、生物、醫(yī)藥、FPD平板顯示器、新材料、LED、農(nóng)業(yè)。

等離子是物質(zhì)的第4種狀態(tài)。

• 加熱氣態(tài)物質(zhì)后，加速的電子會撞擊原子或分子。
• 原子核與電子的分離狀態(tài)即稱為物質(zhì)的第4種狀態(tài)。

• 	溶液方式	等離子方式
  氣體?溶液	溶劑（溶液） 、純水	氣體（O2、Ar等）
  處理時間	數(shù)階段清洗	３～５分鐘
  其他消耗品	溶劑（溶液）的管理	氣體
  溶液的處理	需要	－
  占用空間	大	小
  作業(yè)環(huán)境	差	好