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| 參考價(jià) | 面議 |
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,能源,電子 |
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氦氣和氮?dú)饧兓?/strong>
載氣的純化在靈敏度要求高的任何應(yīng)用中都是要存在的，不純氣體會(huì)影響檢測(cè)器的靈敏度，甚至損壞毛細(xì)柱。氦氣純化器（HP2）可以隨時(shí)提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體，例如可以將 Ne、Ar、Kr 和Xe 中的 ppm 級(jí)以下的不純氣體純化。
氮?dú)饧兓鳎?/span>NP2）同樣地作用于氮?dú)狻?氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無(wú)揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金， 此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中，所以可以安全簡(jiǎn)單地使用。吸附劑粒子 表面有一層氧化膜需通過(guò)加熱活化，活化過(guò)程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成，這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮?dú)饧兓?/strong>有一自動(dòng)調(diào)控的特征設(shè)計(jì)，它保持吸附劑材料于最適溫度，消除了熱量流失的可能性。
氦氣純化器
z 可純化氣體：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig
z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質(zhì)烴。
z 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
氮?dú)饧兓?/span>
z 可純化氣體：只有 N2
z 最高操作壓強(qiáng)：1000 psig
z 可去除雜質(zhì)：出口雜質(zhì)低于 10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和 CH4，此基于 10ppm 入口雜質(zhì)總量，其它去除雜質(zhì)包括 CF4、CCl4、SiH4和輕質(zhì)烴。
z 未被去除雜質(zhì)：He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2
注意事項(xiàng)：
警告
此產(chǎn)品不能用于氧氣——純氧氣或含大量氧氣組分的其他氣體。凈化器的吸氣合金在操作溫度下可自燃。使用大量氧氣會(huì)引起材料爆炸，可能損壞周?chē)鷧^(qū)域，或造成人員傷害。
在任何情況下，無(wú)論基于合同、侵權(quán)或任何其他法律概念，不論被告是否了解這類(lèi)損壞的可能性，Valco 儀器公司對(duì)任何直接、間接、特殊的、偶然的或間接的損壞將不予負(fù)責(zé)。
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