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          離子濺射儀 MC1000

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          • 離子濺射儀 MC1000
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          • 所在地 上海市
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          更新時間:2023/05/24 07:46:12瀏覽次數(shù):2218

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          產(chǎn)品簡介

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子
          日立MC1000離子濺射儀
          產(chǎn)品介紹:日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計制造,針對掃描電鏡的精細(xì)需求而設(shè)計,適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品,尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。

          詳細(xì)介紹

          采用磁控型電極,大限度地減輕對樣品的損壞。

          離子濺射儀 MC1000特色

          • 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
          • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
          • 記憶功能可存儲常用加工條件

          離子濺射儀 MC1000規(guī)格

          項(xiàng)目說明
          放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
          電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
          電壓大 0.4 kV DC(直流可變)
          電流大 40 mA DC
          噴鍍速率 *1(大)
          [條件]
          壓力:7 Pa
          放電電流:40 mA
          標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm
          Pt 靶(選配件)15 nm/min
          Pt-Pd 靶(選配件)20 nm/min
          Au 靶(選配件)35 nm/min
          Au-Pd 靶(選配件)25 nm/min
          樣品尺寸大直徑φ60 mm
          大高度20 mm
          機(jī)械泵135/162 l/min (50/60Hz)
          靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
          電源要求單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
          尺寸寬度450 mm
          長度391 mm
          高度390 mm
          重量主機(jī):約 25 kg
          機(jī)械泵:約 28 kg

          *1

          : 噴鍍速率僅供參考

          *2

          : 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。

           

          應(yīng)用領(lǐng)域:

          離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

            

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