ST橢偏儀SE500是一種利用光的偏振態(tài)變化來(lái)進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來(lái)測(cè)量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成*偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進(jìn)入樣品介質(zhì)后會(huì)反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會(huì)對(duì)偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會(huì)被橢偏儀測(cè)量，橢偏儀就是利用這個(gè)介質(zhì)對(duì)偏振光性質(zhì)改變的原理來(lái)表征介質(zhì)的性質(zhì)的。

ST橢偏儀SE500

 

 

簡(jiǎn)介

ST橢偏儀SE500是一種利用光的偏振態(tài)變化來(lái)進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來(lái)測(cè)量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成*偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進(jìn)入樣品介質(zhì)后會(huì)反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會(huì)對(duì)偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會(huì)被橢偏儀測(cè)量，橢偏儀就是利用這個(gè)介質(zhì)對(duì)偏振光性質(zhì)改變的原理來(lái)表征介質(zhì)的性質(zhì)的。
SE500型號(hào)采用雙光譜儀耦合實(shí)現(xiàn)250-1700nm超長(zhǎng)波段的探測(cè)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測(cè)量研究，同時(shí)可搭配自動(dòng)平臺(tái)掃描、自動(dòng)變角、微光斑探測(cè)以及平臺(tái)加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。

系統(tǒng)配置:

 探測(cè)器：陣列探測(cè)器,

光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源

軟件：TFProbe 3.3版本的軟件

入射角度變化：手動(dòng)調(diào)節(jié)

 測(cè)量種類：薄膜厚度、折射率和消光系數(shù)以及多層膜堆疊

計(jì)算機(jī)：Intel雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整機(jī)及零部件保修

 

規(guī)格參數(shù)

波長(zhǎng)范圍：250nm到1700 nm

光斑尺寸：1mm至5mm可變

樣品尺寸：直徑可達(dá)200mm

測(cè)量厚度范圍*：?30μm

測(cè)量時(shí)間：約1秒/位置點(diǎn)

入射角范圍：20到90度，5度間隔

 重復(fù)性誤差*：小于1 ?

 

可選項(xiàng)配置:

用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量；

用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑；

用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣?dòng)量角器；

X－Y成像平臺(tái)(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；

加熱/致冷平臺(tái)；

樣品垂直安裝角度計(jì)；

波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍；

掃描單色儀的配置；

聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對(duì)樣品的圖像進(jìn)行測(cè)量等。

 

其他選項(xiàng)配置:

用于玻璃基底測(cè)量的特殊樣品架

用于觀察樣品區(qū)的可視模塊

加熱或制冷平臺(tái)

可用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量

其他尺寸的樣品臺(tái)

用于 Liquid Cell 的特殊配置

用于單波長(zhǎng)或窄波段探測(cè)的單色掃描儀配置

 

相關(guān)產(chǎn)品

光譜反射分析系列：SR100、SR300、SR500等

微光斑分析系列：MSP100、MSP300、MSP500等

橢偏儀系列：SE200BA、SE200BM等

自動(dòng)掃描測(cè)試平臺(tái)：M100、M150、M200等