Centrotherm 高溫氧化系統(tǒng)-Oxidator 150

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

德國(guó)Centrotherm公司是國(guó)際主流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm Oxidator 150 經(jīng)過專業(yè)的研發(fā), 能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時(shí)亦可用于常規(guī)的硅圓片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 的反應(yīng)腔具有性能高、占地小和生產(chǎn)成本低等特點(diǎn)，為客戶提供最高的工藝靈活度, 同時(shí)能夠保證有毒氣體的安全使用。

設(shè)備特點(diǎn)：

爐管和加熱器均處于真空密閉反應(yīng)腔內(nèi)，上下料腔室可用Ar或 N2 進(jìn)行吹掃，可以保證有毒氣體（如 NO、N2O、H2、NO2 等） 的安全使用。

氧化工藝使用 N2O 氣氛，可以改善 SiO2/SiC 接觸表面以獲得更高的通道遷移率，同時(shí)可提高SiC表面氧化物的穩(wěn)定性和壽命。

提供帶有氫氧合成系統(tǒng)的濕氧工藝。

高達(dá) 1350 ℃ 的溫度和其他支持功能為 SiC 氧化工藝和低界面陷阱密度, 高通道移動(dòng)率的氧化層研制提供可能。

二、適用工藝

高溫SiC或Si氧化

氧化后退火（氫氣環(huán)境）

三、產(chǎn)品特性

性能

圓片尺寸： 2″、3″、4″、6″

工藝溫度： 900 ℃ ~ 1350 ℃