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        1. 那諾中國(guó)有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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          Plasma Source等離子體源
          • Plasma Source等離子體源
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          貨物所在地:國(guó)外

          地: 美國(guó)

          更新時(shí)間:2024-11-04 21:00:07

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          在線詢價(jià)收藏商機(jī)

          ( 聯(lián)系我們,請(qǐng)說(shuō)明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

          NANO-MASTER (那諾-馬斯特)可根據(jù)客戶需求,提供合適的Plasma Source等離子體源,可以是空心陰極等離子源,也可以是感應(yīng)耦合等離子源。等離子源可應(yīng)用于離子輔助鍍膜、等離子聚合、等離子清潔、等離子刻蝕、表面改性以及其他材料科學(xué)的研究等等。

          Plasma Source等離子體源

          離子源類型

          特征

          應(yīng)用

          選項(xiàng)

          Plasma Source等離子體源1:

          NANO-MASTER

          淋浴頭等離子體源SH-1000

          • 射頻淋浴頭等離子體源
          • 氣體通過(guò)射頻板
          • 二級(jí)板將其他氣體引入等離子體
          • 水冷卻
          • zui大600瓦
          • 可在0.02托至8托之間操作
          • 8英寸有效區(qū)域
          • ISO 250法蘭

           

           

          2:

          空心陰極13.56 MHz射頻等離子體源

           

          • 支持?jǐn)U展功率和氣壓范圍操作
          • 高濃度高活性高均勻性等離子體(1011 cm-3
          • 兼容化學(xué)反應(yīng)和非化學(xué)反應(yīng)氣體
          • 等幅波和脈沖電源
          • 低污染
          • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
          • 等離子聚合
          • 等離子清潔
          • 等離子刻蝕
          • 表面改性
          • 600mm線性等離子源
          • 900mm線性等離子源

          3:

          SLAN(SLot ANtenna)2.45 GHz微波等離子體源

           

          • 高濃度等離子體
          • 壓力范圍在10-5毫巴到大氣壓
          • 兼容化學(xué)反應(yīng)和非化學(xué)反應(yīng)氣體
          • 低污染
          • 電子回旋共振(ECR)或非電子回旋共振(non-ECR)操作
          • 等幅波和脈沖電源
          • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
          • 等離子聚合
          • 等離子清潔
          • 等離子刻蝕
          • 表面改性
          • 材料科學(xué)
          • 直徑4厘米
          • 直徑16厘米
          • 直徑67厘米

          4:

          電感耦合等離子體源ICP-P 200(13.56MHz)

           

          • 200毫米直徑的平面線圈
          • 擴(kuò)展功率范圍在3-1200瓦
          • 低能量擴(kuò)散
          • 高濃度高活性等離子體
          • 低污染
          • 等幅波和脈沖電源
          • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
          • 等離子聚合
          • 等離子清潔
          • 等離子刻蝕
          • 表面改性

           

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