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        1. 那諾中國(guó)有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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          NOC-4000雙腔光學(xué)元件鍍膜系統(tǒng)
          • NOC-4000雙腔光學(xué)元件鍍膜系統(tǒng)
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          貨物所在地:國(guó)外

          地: 美國(guó)

          更新時(shí)間:2024-07-24 21:00:06

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          NOC-4000雙腔光學(xué)元件鍍膜系統(tǒng):NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣片進(jìn)行表面涂覆,整個(gè)過(guò)程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個(gè)腔體的單獨(dú)使用,同時(shí)具備各自的自動(dòng)上/下載片功能。

          光學(xué)元件原子級(jí)清洗鍍膜系統(tǒng)

          NOC-4000雙腔光學(xué)元件鍍膜系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣片進(jìn)行表面涂覆,整個(gè)過(guò)程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個(gè)腔體的單獨(dú)使用,同時(shí)具備各自的自動(dòng)上/下載片功能。

          NOC-4000雙腔光學(xué)元件鍍膜系統(tǒng)應(yīng)用

          • Optical Coatings 光學(xué)涂層
          • Sputtering  濺射
          • IBAD  IBAD離子束輔助沉積
          • Ion Beam Etching Cleaning  離子束刻蝕清洗
          • Ion Beam Assisted Reactive Etching 離子束輔助反應(yīng)刻蝕
          • Infrared Coatings  紅外涂層
          • Surface Treatment   表面處理

          產(chǎn)品特點(diǎn):

          • RF Biasable Platen  RF射頻偏壓樣品臺(tái)
          • Thickness Monitor   膜厚監(jiān)測(cè)儀
          • 5x10-7 Torr Base Pressure  極限真空5x10-7Torr
          • High Accuracy and Repeatability  高精度及高重復(fù)性
          • High Quality Films  高品質(zhì)膜層
          • Atomic Level Clean Surfaces   原子級(jí)的潔凈表面
          • Atomic Cleaning and Polishing  原子級(jí)清洗和拋光
          • PC Controlled with LabVIEW  通過(guò)LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
          • Automatic Load/Unload  自動(dòng)上下載片
          • Automatic Transfer Between Chambers  兩個(gè)腔體之間自動(dòng)傳送
          • Recipe Driven, Password Protected 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪(fǎng)問(wèn)保護(hù)
          • Safety Interlocks 完整的安全聯(lián)鎖
          • 46"D x 44"W Footprint  占地面積46"D x 44"W

          選配項(xiàng):

          • Sputter Down/Up  向下/向上濺射
          • Co-Sputtering 共濺射
          • DC, RF and Pulsed Power Supplies  DC,RF以及脈沖電源
          • Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積
          • E-Beam Sources 電子束源
          • Plasma Sources 等離子源


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