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          HD-3297-玻碳電極
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          • HD-3297-玻碳電極

          舉報(bào)
          貨物所在地: 北京北京市
          更新時(shí)間: 2024-09-19 14:35:42
          期: 2024年9月19日--2025年3月20日
          已獲點(diǎn)擊: 308
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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          玻璃碳電極的優(yōu)點(diǎn)是導(dǎo)電性好,化學(xué)穩(wěn)定性高,熱脹系數(shù)小,質(zhì)地堅(jiān)硬,氣密性好,電勢(shì)適用范圍寬(約從-1~1V,相對(duì)于飽和甘汞電極),可制成圓柱、圓盤等電極形狀,用它作基體還可制成汞膜玻碳電極和化學(xué)修飾電極等。在電化學(xué)實(shí)驗(yàn)或電分析化學(xué)中得到日益廣泛的應(yīng)用。

          詳細(xì)介紹

          • 產(chǎn)品名稱:玻碳電極
          • 規(guī)格型號(hào):HD-3297
          產(chǎn)品概述詳細(xì)

          簡(jiǎn)單介紹

          玻璃碳電極的優(yōu)點(diǎn)是導(dǎo)電性好,化學(xué)穩(wěn)定性高,熱脹系數(shù)小,質(zhì)地堅(jiān)硬,氣密性好,電勢(shì)適用范圍寬約從-11V,相對(duì)于飽和甘汞電極,可制成圓柱、圓盤等電極形狀,用它作基體還可制成汞膜玻碳電極和化學(xué)修飾電極等。在電化學(xué)實(shí)驗(yàn)或電分析化學(xué)中得到日益廣泛的應(yīng)用。

          玻碳電極的詳細(xì)介紹:接頭5mm,材質(zhì)為銅鍍鉻
          玻炭電極直徑5mm,抗腐蝕聚四氟乙烯外套。
          玻炭電極直徑4mm,抗腐蝕聚四氟乙烯外套。
          玻炭電極直徑3mm-3.9mm,抗腐蝕聚四氟乙烯外套。

          玻璃碳簡(jiǎn)稱玻碳,是將聚丙烯腈樹脂或酚醛樹脂等在惰性氣氛中緩慢加熱至高溫達(dá)1800處理成外形似玻璃狀的非晶形碳,適于作電極的電子導(dǎo)體材料,在乒乓球底板中也被廣泛使用。

          玻碳電極是玻璃碳電極的簡(jiǎn)稱。

          玻璃碳電極的優(yōu)點(diǎn)是導(dǎo)電性好,化學(xué)穩(wěn)定性高,熱脹系數(shù)小,質(zhì)地堅(jiān)硬,氣密性好,電勢(shì)適用范圍寬約從-11V,相對(duì)于飽和甘汞電極,可制成圓柱、圓盤等電極形狀,用它作基體還可制成汞膜玻碳電極和化學(xué)修飾電極等。在電化學(xué)實(shí)驗(yàn)或電分析化學(xué)中得到日益廣泛的應(yīng)用。

          玻碳電極特點(diǎn):

          玻炭電極是用途廣泛的工作電極之一,它是一種較好的惰性電極,具有導(dǎo)電性好,硬度高,光潔度高,氫過電位高,極化范圍寬,化學(xué)性穩(wěn)定,可作為惰性電極直接用于陽極溶出,陰極和變價(jià)離子的伏安測(cè)定,還可以作化學(xué)修飾電極。

          玻炭電極處理和維修:

          玻炭電極,須保證玻碳表面呈鏡面和清潔。由于玻璃炭表面容易受到一些有機(jī)物金屬化合物的污染,嚴(yán)重地影響測(cè)量(不出峰,出雜峰,不重現(xiàn))所以測(cè)量前都須作清潔處理,主要方法有三種,化學(xué)法1.硝酸浸泡和擦洗。2.

          氨水無水乙醇或乙酸乙脂11浸泡擦洗。3.也可用酒精擦洗后再以6NHCL4NHO3浸泡。電化學(xué)處理:即在+0.8V--1.8V0.5MKcLPH7O2I條件下)電壓范圍內(nèi)反復(fù)極化次(復(fù)位-掃描)(陽極-陰極至陰極處)若嚴(yán)重污染和有麻坑,劃痕可作機(jī)械處理,MgO粉(200目以上)放在濕絨布上,加少量水拋光。也可

          根據(jù)玻炭電極情況把幾種方法聯(lián)合使用。不宜長(zhǎng)時(shí)間將電極浸泡再?gòu)?qiáng)酸強(qiáng)堿和有機(jī)溶劑中。

          玻炭電極是惰性電極,所以在使用鍍掃描材料就是掃描電極,如鍍汞,銅,金就是汞膜,銅膜,金膜電極。例如:陽極溶出鍍汞和鍍金,玻碳鍍汞有兩種:*種為同位鍍汞,即在被分析的樣品中加入一定量的Hg+(一般用氧化gong和硝酸汞)在電解富集待離子的點(diǎn)位下,同時(shí)形成汞齊,掃描溶出后,于較正的電位下,*溶出待測(cè)離子或汞膜,還可以取出電極用濾紙把汞膜擦凈。保證第二次分析時(shí)電極表面仍然為原始狀態(tài),以保證重現(xiàn)性,一般汞離子的濃度是被測(cè)離子濃度的500-1000倍,第二種為予鍍汞膜,1.在正于待測(cè)離子電解電位下長(zhǎng)時(shí)間電積汞。如測(cè)cu可在-0.2V長(zhǎng)時(shí)間電積制得汞膜,而防止電積cu,pb,cd,zn的危險(xiǎn),此方法效率低,時(shí)間長(zhǎng)。2.在同位鍍汞條件下,電積制作一段時(shí)間后,掃描溶出,在終止電位下再溶出一般時(shí)間,溶出待測(cè)離子,如此富集-溶出,反復(fù)數(shù)次即可得到一層不含待測(cè)離子的汞膜。----玻炭電極

          0.5MKCL+2×10-2MHg+十幾滴飽和NaSO3,于-1.4V攪拌5-10分鐘富集,攪拌狀態(tài)下以15秒時(shí)間掃描至-0.1V,在-0.1V下繼續(xù)攪拌溶出30秒,再在復(fù)位狀態(tài)下攪拌富集5-10分鐘,15秒攪拌掃描至-0.1V,再在-0.1V下攪溶出30秒,溶液靜止后取出電極,用水沖洗電極支桿,防止鍍層沖破。鍍汞時(shí)應(yīng)注意電極底下不能有氣泡吸著,否則汞鍍層不勻和電鍍不上,短期不用可把電極泡在11硝酸中,用時(shí)洗凈再鍍,長(zhǎng)期不用應(yīng)去汞洗凈,干保存。玻碳鍍金的基本要領(lǐng)與鍍汞相同。

           

           

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