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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
北京華測(cè) 高真空退火爐
設(shè)備原理：
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
設(shè)備特點(diǎn)
1. 高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
2. 溫度控制
通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
3. 清潔加熱
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻
北京華測(cè) 高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設(shè)備結(jié)構(gòu)：
序號(hào) | 項(xiàng)目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測(cè) | 溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（） | |
3 | 溫度控制器 | 1 | 華測(cè) | |
4 | 電熱偶 | 1 | omega | |
5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（） | |
6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測(cè) | 可定制 |
7 | 制冷水機(jī) | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（） | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
反射爐溫度控制裝置：
高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度快。
可選配置：
（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測(cè)量范圍5X10-7Pa到1atm;
（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度；
（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；
（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；
（6）可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序；
（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。
多應(yīng)用：
樣品腔內(nèi)徑：≥30mm； 退火爐外徑：≤100mm
電子材料 | 半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻） |
熱源薄膜形成 | |
離子注入后 | |
硅化物的形成 | |
陶瓷與無(wú)機(jī)材料 | 陶瓷基板退火爐 |
玻璃基板退火爐 | |
鋼鐵和金屬材料 | 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬 |
爐焊接模擬 | |
高真空熱處理（1000°c以下） | |
大氣氣體熔化過(guò)程 | |
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐 | |
復(fù)合材料 | 耐熱性評(píng)價(jià)爐 |
無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐 | |
其他 | 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐 |
分段分區(qū)控制爐 | |
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