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        1. 西安瑞禧生物科技有限公司

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          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜

          參   考   價:面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準

          產品型號:/

          品       牌:MREDA

          廠商性質:生產商

          所  在  地:西安市

          更新時間:2020-02-12 18:47:59瀏覽次數(shù):944

          聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
          供貨周期 現(xiàn)貨 規(guī)格 10mg
          貨號 / 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產業(yè)
          主要用途 科研
          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜
          采用雙陰封閉型非平衡磁場dc反應磁控濺射離子鍍制備C3N4/TiN復合交替膜,用X射線光電子能譜法分析了薄膜的組成,測量了薄膜的X射線衍射譜和氮化碳的透射電子衍射圖像。氮化碳經氮化鈦的迫晶化作用,生成了β-C3N4和c-C3N4。

          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜

          西安瑞禧生物科技有限公司是一家從事科研試劑、多肽、光電材料、碳納米管、、納米材料、脂質體、磷脂的、定制、和銷售的科技生物科技有限公司,公司、,不斷的進行納米材料、多肽,嵌段共聚物的,。,70%;;,接受定制,提供核磁,HPLC,LCMS,GC圖譜 可放心使用;對于科研機構支持。

          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜

          產品:C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜/復合硬相氮化碳(α/β-C3N4)/氮化碳改性二氧化鈦親水多孔薄膜。

          摘要:

                采用中頻磁控濺射和多弧輔助中頻磁控濺射技術在硅片、不銹鋼、速鋼以及硬質合金等基體材料上制備C_3N_4涂層和C_3N_4/TiN納米復合涂層,研究了C_3N_4涂層和C_3N_4/TiN納米復合涂層的結構、物理性能、摩擦磨損、抗水蝕性能,相關基礎研究成果在汽輪機末級葉片上得到了應用。主要結論如下:

          (1)采用中頻磁控濺射技術在硅片上純C_3N_4薄膜,X射線衍射分析表明薄膜中含有α和β兩種結構的C_3N_4相,其中β相是C_3N_4薄膜的主要結晶相。光電子能譜和傅立葉紅外光譜分析表明,薄膜中的C、N原子比值在1.06~1.24之間,C原子主要以sp~2和sp~3兩種雜化狀態(tài)存在,C、N原子以C-N鍵為主要鍵合方式。

          (2)研制了多弧-中頻磁控濺射,在2Crl3不銹鋼和速鋼基體上沉積C_3N4/TiN納米復合涂層,所制備涂層硬度40GPa,屬于硬涂層。AFM和SEM分析顯示多弧-中頻磁控濺射制備的C_3N_4/TiN涂層表面狀況、涂層與金屬襯底結合牢固。

          (3)通過對涂層的性能測試及熱沖擊試驗和摩擦磨損性能測試,發(fā)現(xiàn)涂層硬度和附著力受基體材料影響。在涂層的熱沖擊試驗中,2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN復合涂層抗熱沖擊性能,在400℃以下,涂層幾乎沒有變化。在550℃時,發(fā)現(xiàn)在涂層的表面出現(xiàn)氧化物。摩擦磨損試驗發(fā)現(xiàn)隨著載荷的增加,摩擦系數(shù)有逐步增加的傾向,同時涂層和對偶球的磨損也逐步增加。C_3N_4/TiN復合涂層具有的抗摩擦磨損性能。

          (4)在探討汽輪機末級葉片水蝕失效機理的基礎上,研制了水蝕試驗裝置并對設備的基本參數(shù)進行了測試。不銹鋼基體、鉻鑄鐵、鈷基合金的水蝕速率和水蝕破壞機理研究表明,研制的設備能對水蝕狀況進行的,設備具有、性能穩(wěn)定、等。

          (5)鉻鑄鐵、鈷基合金和涂C_3N_4/TiN涂層的2Crl3不銹鋼等不同材料的抗水蝕性能對比試驗發(fā)現(xiàn),2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN涂層的抗水蝕性能比2Crl3不銹鋼基體提了將近50倍,優(yōu)于目前外使用的鈷基合金,比鈷基合金提了3倍。

          (6)2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN涂層的水蝕破壞形貌研究發(fā)現(xiàn),當水滴撞擊次數(shù)一定的次數(shù)后,在涂層的表面,裂紋從應力集中區(qū)域萌生,隨著水滴撞擊次數(shù)的增加而擴展,后導致表面一定數(shù)量的涂層脆性斷裂,當表面涂層脆斷剝落之后,水滴直接作用在涂層次表面上,涂層的斷裂方式為逐層脆斷方式。

          (7)上述研究成果在電廠50MW汽輪機2Crl3不銹鋼末級葉片上得到了應用,C3N4/TiN復合涂層抗水蝕性能。

          產品供應列表:

          聚多巴胺修飾的黑磷納米片

          黑磷納米片和半解開碳納米纖維復合材料

          黑磷納米片負載二硫化鉬納米片

          黑磷石墨烯復合納米造影劑

          黑磷量子點/凹凸棒納米復合BPQD/ATP

          黑磷量子點/碳化鈦納米片復合材料

          黑磷量子點/g-C3N4復合光催化劑

          帶隙可調的黑磷量子點光催化劑

          分子聚合物(PLGA)包裹黑磷量子點(BPQDs)的核殼結構納米球(BPQDs/PLGA)

          二維黑磷納米片的液相剝離

          黑磷量子點(BP QDs)

          黑磷納米片表面修飾納米金

          黑磷納米片表面修飾納米鉑

          黑磷量子點(BPQDs)脂質體

          納米黑磷/三維石墨烯復合材料

          氧化錫納米管負載黑磷量子點

          人血清白蛋白修飾黑磷量子點

          黑磷納米修飾了特異性靶向多肽

          二維層狀金屬碲化物[Mn(en)3]Ag2Sn2Te8

          二維二碲化鉬(Mo Te2)材料

          碲(Te)一維納米材料

          碲化鉍(Bi2 Te3)-碳纖維水泥基材料

          碲化銻(Sb2Te3)納米材料

          納米碲碳復合物(nano-Te@C)

          二維碲化鉍晶體材料

          多孔碳/碲(RHPC/Te)復合材料

          碲(Te)納米粉體顆粒

          Cd-Te基熱電材料

          一維納米材料Te納米管

          窄帶半導體材料碲化鉛(PbTe)

          二維Te/SnS2納米片的光子二管

          二維過渡金屬硒化物與碲化物量子點

          金屬三組元層狀碲化物TaNi2Te2

          Nb/Ta層狀碲化物

          金屬碲化物[Ga(en)3]In3Te7

          石墨烯基硒和碲納米復合物

          薄二維納米材料(Bi&Bi2Te3)

          二維碲化鉍晶體材料

          三組元碲化物CrNb2Te4

          碲化鉛基塊體納米材料

          碲化物(RuTe2-OsTe2)

          TI10-xLnxTe6碲化物

          硒碲化合物半導體納米材料

          二元過渡金屬硫族化合物碲化鉬(MoTe2)

          ,、,提供核磁,HPLC,LCMS,GC圖譜 ,,如遇任

          何質量問題,

          溫馨提示:西安瑞禧生物供應產品用于科研,不能用于人體(wyf2020.02.12

          羧基修飾二硫化鎢復合薄膜

          羧基修飾二硫化鎢復合薄膜$r$n羧基(carbox

          聚乙烯醇/聚多巴胺-氮化碳滲透

          聚乙烯醇/聚多巴胺-氮化碳滲透汽化復合膜$r$n復

          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮

          C3N4/TiN復合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復合膜$

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