目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>沉積系統(tǒng)>>激光沉積系統(tǒng)>> 單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 應用領域 | 化工,石油,交通,制藥,綜合 |
|---|---|---|---|
| 腔體尺寸 | 圓柱形腔體，直徑：400 mm | 樣品尺寸 | 1 英寸或 2 英寸向下兼容 |
| 樣品加熱 | 輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 900 ℃ / 1200 ℃ | 靶臺操控 | 4 靶位，1 英寸靶托，公自轉設計 |
| 抽氣泵組 | 進口：Pfeiffer分子泵，355 l/s Leybold干泵，14.5 m3/h | 真空測量 | 進口：Inficon MPG400復合規(guī) + CDG025D薄膜規(guī) |
| 氣路 | 進口：質量流量計MKS，50 / 100 sccm | 控壓方式 | 手動角閥/漏閥控壓 |
| 極限真空 | 5 x 10-8 mbar | 光路支架 | 根據(jù)用戶現(xiàn)場情況定制 |
| 軟件控制 | 動作程序控制，軟件編程控制工藝，設備全套互鎖 |
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種先進的材料制備技術，它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發(fā)和電離靶材上的物質，并在基底上沉積形成各種物質薄膜。這種系統(tǒng)通常包括一個沉積室，其中激光聚焦于靶材上的一個小面積，使其材料蒸發(fā)或電離并向基底運動?；淄ǔ１３衷谳^低的溫度，以便在沉積過程中形成高質量的薄膜。
單腔體脈沖激光 沉積系統(tǒng)的主要特點包括：
1. 高沉積速率：由于激光的高能量密度，靶材上的物質可以迅速蒸發(fā)和沉積到基底上，從而實現(xiàn)較高的沉積速率。
2. 精確控制：系統(tǒng)可以精確控制激光的脈沖能量、頻率和持續(xù)時間，從而實現(xiàn)對薄膜厚度和沉積速率的精確控制。
3. 靈活性和多樣性：該系統(tǒng)可以制備多種不同類型的薄膜，包括金屬、氧化物、氮化物等。此外，通過調節(jié)工藝參數(shù)，還可以制備出具有不同結構和性能的薄膜。
4. 高質量薄膜：由于激光的高能量密度和精確控制，該系統(tǒng)可以制備出高質量、均勻且致密的薄膜，適用于各種應用。
單腔體脈沖激光 沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學、物理學、化學和工程學等領域，用于制備各種功能薄膜，如光學薄膜、電子薄膜、超導薄膜等。此外，該系統(tǒng)還用于研究薄膜的生長機制、晶體結構、表面形貌和性能等方面。
需要注意的是，單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)的使用需要一定的專業(yè)知識和經驗。在操作過程中，需要嚴格控制激光參數(shù)、基底溫度、氣氛等條件，以確保制備出高質量的薄膜。此外，該系統(tǒng)還需要定期維護和清潔，以保持其性能和穩(wěn)定性。
總之，單腔體脈沖激光沉積 系統(tǒng)是一種重要的材料制備技術，具有廣泛的應用前景和重要的科學價值。隨著技術的不斷發(fā)展和完善，它將在材料科學、物理學、化學和工程學等領域發(fā)揮越來越重要的作用。
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