目錄:中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司>>薄膜制備全套設(shè)備>>射頻等離子磁控濺射鍍膜儀>> VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。
技術(shù)參數(shù)
概念 |
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電源 | 單相220 VAC, 50 / 60 Hz |
射頻電源 |
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直流電源(可選) |
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磁控濺射頭
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濺射靶材 |
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真空腔體
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樣品臺 |
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真空泵 |
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石英振蕩測厚儀(可選) | 可選購精密石英振蕩測厚儀,安裝在真空腔體內(nèi),實時測量薄膜的厚度,精確度為0.1 Å(需水冷) |
凈重 | 60kg |
質(zhì)量認(rèn)證 | CE認(rèn)證 |
質(zhì)保 | 一年質(zhì)保期,終生維護(hù) |
應(yīng)用注意事項 |
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