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          目錄:中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司>>薄膜制備全套設(shè)備>>直流等離子磁控濺射鍍膜儀>> VTC-2DC直流等離子磁控濺射鍍膜儀

          直流等離子磁控濺射鍍膜儀
          • 直流等離子磁控濺射鍍膜儀
          參考價 面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          參考價 面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 品牌
          • 型號 VTC-2DC
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
          • 所在地 合肥市
          屬性

          >

          更新時間:2024-10-22 15:50:29瀏覽次數(shù):3527評價

          聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

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          直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

          直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
          用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

           直流等離子磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)

          輸入電源

          • 220VAC 50/60Hz, 單相
          • 1000W  (包括真空泵)

          等離子源

          • 一個500W,600V的直流電源安裝在移動柜內(nèi)(點擊圖片查看詳細資料)

          磁控濺射頭

          • 一個2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
          • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
          • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3)
          • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機)
          • 同時可選配1英寸濺射頭
               

          真空腔體

          • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
          • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
          • 一個不銹鋼網(wǎng)罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
          • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵), 10-5 torr (采渦旋分子泵)

          載樣臺

          • 載樣臺可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
          • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
          • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
          • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃
          • 控溫精度+/- 10℃

          真空泵

          可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)
                

          薄膜測厚儀

          • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
          • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
             

          外形尺寸

               

          重量 70Kg

          質(zhì)保和質(zhì)量認證

          • 一年質(zhì)保期,終生維護
          • CE認證

          使用注意事項

          • 為了得到較好的金屬膜,特別是針對易氧化的金屬,如Al, Mg和Li等,必須通入高純惰性氣體(> 5N)
          • 強烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(tǒng)(將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi))
          • 我們也可在設(shè)備中安裝射頻(RF)電源,用于濺射非導(dǎo)電靶材,來制備非金屬薄膜
              

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