GAIA3 是一款可以挑戰(zhàn)納米設計應用的理想平臺，它同時具備高精度及微量分析能力。GAIA3 適用于高質(zhì)量超薄 TEM 樣品制備、在技術(shù)節(jié)點減少流程、精確的納米構(gòu)圖或高分辨率的三維重構(gòu)。
 

這些特征使得 GAIA3 成為低能電子束成像應用的理想工具，保留易受電子束損壞的樣品的精細結(jié)構(gòu)，如低介電常數(shù)材料、光阻材料及未涂覆生物樣品。在樣品改性方面，GAIA3 也代表了挑戰(zhàn)納米加工的適合解決方案。

突出特點

Triglav™ - 新型超高分辨率 ( UHR ) 電子光學鏡筒

• TriLens™ 物鏡系統(tǒng)：*的電子束無交叉模式與超高分辨率物鏡相結(jié)合
• 具有多個 SE 及 BSE 探測器的*探測系統(tǒng)
  • TriSE™ + TriBE™
• Triglav™ - 低加速電壓下的超高分辨率: 1 nm (1 kV ),0.7 nm (15 kV )
• EquiPower™ 進一步提高電子束的穩(wěn)定性
• 電子束流高達 400 nA，并能實現(xiàn)電子束能量的快速改變
• 優(yōu)化的鏡筒幾何設計大可容納8”晶圓

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