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        1. 海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

          包埋劑;包埋模具;解剖刀;熒光染料;Dumont高級鑷子;Aurion膠體金;ESCO品牌系列玻片等

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          海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司>>儀器>>樣本制備儀器>> EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)
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          EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)

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          • 海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司
          • 2017-05-10 17:21:46
          • 北京市
          • 美國
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          我要詢價 具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          【簡單介紹】

          EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)High Resolution, Large Sample Sputter Coater高分辨率,大樣品,鍍鉻或其它金屬可用于8英寸(200mm)晶圓鍍膜。主機系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動樣品臺,可進行漸進的橢圓形轉(zhuǎn)動,這樣使得濺射沉積更均勻。

          【詳細(xì)說明】

          EMS 675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)High Resolution, Large Sample Sputter Coater

              高分辨率,大樣品鍍鉻或其它金屬

              EMS675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)可用于8英寸(200mm)晶圓鍍膜。主機系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動樣品臺,可進行漸進的橢圓形轉(zhuǎn)動,這樣使得濺射沉積更均勻。

          EMS675X三靶濺射鍍膜儀(樣本制備)系統(tǒng)裝有磁電管靶可增加濺射效率,它使用低電壓,可得到薄而精細(xì)的涂層。在EMS675X中放置了三個靶面,可鍍非常大直徑的樣品,加上旋轉(zhuǎn)樣品臺,保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面,而用標(biāo)準(zhǔn)即可。多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵,前級為旋轉(zhuǎn)機械泵。集成的儀器面板即插即用的電子學(xué)zui大的“up-time”,還有用戶友好設(shè)計,保證了多用戶系統(tǒng)的應(yīng)用。

          可預(yù)設(shè)濺射參數(shù),包括氣體放氣電磁閥。獨立的真空泵系統(tǒng)由儀器自動控制。它可用金作為濺射靶材,在需要預(yù)清洗或去除氧化層時,也可選用其它靶材,如鉻靶。

          閘門作為標(biāo)準(zhǔn)配置,這樣在維持真空時即可進行濺射清潔和濺射循環(huán)。

           

          特點:

          • 配置三個靶面
          • 渦輪分子泵抽氣系統(tǒng)
          • 全自動控制
          • Peltier冷卻濺射頭
          • 精細(xì)涂層(0.5nm Cr粒子)
          • 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標(biāo)準(zhǔn)配置
          • 薄膜沉積(典型為5nm)
          • 直徑為300mm腔室
          • 可選雙濺射頭

          優(yōu)點:

          • 可對大樣品進行鍍膜,如:8英寸晶圓
          • 可濺射易氧化金屬的精細(xì)顆粒,如:鉻或銥
          • 易操作
          • 無需水冷卻
          • 超高分辨率,可復(fù)制涂層
          • 適應(yīng)各種樣品
          • 重復(fù)膜厚沉積
          • 樣品容易裝載和卸載,包括8英寸晶圓
          • 不需要打開真空即可進行兩種金屬順序涂層

          儀器參數(shù):

          儀器尺寸

          450mm W x 500mm D x 300mm H (總高 630mm)

          重量

          42公斤

          工作腔室

          硼硅酸鹽玻璃 300mm Dia. x 20mm H

          安全鐘罩

          聚碳酸酯

          54 mm 直徑 x 0.3mm 厚x 3(鉻作為標(biāo)配靶材)

          旋轉(zhuǎn)樣品

          可調(diào)的6 至 8 英寸晶圓尺寸,到靶距離60mm

          沉積速率

          0-15nm/分

          濺射電流范圍

          0-450mA

          真空范圍

          ATM-1x10-5 mbar

          濺射定時

          0-4 分鐘

          電源

          230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為8安培)

           

          儀器訂購信息:

          貨號

          產(chǎn)品名稱

          91026

          EMS675X Turbo Sputter Coater complete with Three targets

          91025

          Rotary Vacuum Pump

          91030

          Gold Targets (x3)

          91031

          Gold Palladium Targets(x3)

          91032

          Platinum Targets(x3)

          91013

          Chromium Targets (x3)

          91014

          Tungsten Targets (x3)

          91033

          Glass Cylinder 225mm

          91034

          L Gaskets (x2)

          91006

          EMS 150 Film Thickness Monitor

          92030

          EMS 175 Oscillating Stage

          EMS 7640-CF

          Carbon Firber Coating Attachment

          EMS 7640-CR

          Carbon Rod Coating Attachment

           

              
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