高功率激光分析儀特點：
- 紫外，可見，近紅外，MWIR, SWIR, eSWIR和FIR選項
- 具有高倍放大選型（50X及以上）
- 能承受千瓦級別的功率
- 三個可更換的衰減片能夠更好的衰減
- 可拆分的光斑分析系統(tǒng)
- 可以測量微米級別的束腰直徑高功率聚焦光斑輪廓分析儀（ILMS）應(yīng)用：
- 緊密聚焦光束，光纖末端，耦合器，激光二極管等等
- 高功率激光切割系統(tǒng)
- 增材制造中的聚焦光斑測量
- 通過監(jiān)控聚焦光斑的能量分布進行質(zhì)量控制微米級光束輪廓分析儀（ILMS）應(yīng)用例子——增材和減材制造（又稱加法和減法）：在增材和減材制造的領(lǐng)域內(nèi)，F(xiàn)-theta透鏡對于焦平面上的XY位置范圍內(nèi)的高功率聚焦光束是有用的。它經(jīng)常被用來觀察聚焦光束的2D輪廓。
例如：一個160mm焦距的F-theta透鏡將3.5mm直徑大小的343nm的準(zhǔn)直激光聚焦成束腰直徑大約26μm，但是分析這么小的光束對于傳統(tǒng)的光束輪廓分析儀來說是具有挑戰(zhàn)性的。然而，由于ILMS-5-UV可以利用光學(xué)放大，從而實現(xiàn)對聚焦光束的完整2D分析，并且能夠診斷出傳統(tǒng)光斑分析儀沒法發(fā)現(xiàn)的問題，如能量過高點或意料之外的光束橢圓度。
大功率聚焦光斑分析儀應(yīng)用例子——測量無法直接的束腰：在許多應(yīng)用中，束腰是沒法被直接測量的。例如，VCSELs的輸出面，光纖末端和短焦距的聚焦光。但是ILMS的重新成像和放大使這些問題的解決成為了可能。
例如：我們需要對用于1064nm光纖耦合源的7 μm芯直徑單模光纖的末端進行輪廓分析，ILMS-50-1064會先將光纖光斑放大再輸入到光斑分析儀WinCamD-LCM上進行輪廓分析。但是對于傳統(tǒng)的光斑分析儀來說，將儀器放置在光纖足夠近的地方進行近場分析是困難的。