目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>半導(dǎo)體微電子設(shè)備>>等離子體處理>> FPTOR-ICPRIE感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺，產(chǎn)生各向同性等離子體。ICPRIE刻蝕系統(tǒng)有時被稱為桶型蝕刻機。
最初的ICP反應(yīng)器由石英管組成，射頻線圈纏繞在石英管周圍，以產(chǎn)生等離子體，從而產(chǎn)生各向異性蝕刻。感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE有多種類型，其中一種重要類型是將電容耦合偏壓與樣品臺相結(jié)合，以實現(xiàn)電感耦合RF等離子體蝕刻特性的工藝控制。應(yīng)用包括電介質(zhì)材料的干蝕刻。
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE詳情請聯(lián)系我們索取。
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
8
化工儀器網(wǎng)