原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000
- 公司名稱(chēng) 杭州雷邁科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/1/3 18:36:18
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分光測(cè)色儀,鐵電測(cè)試儀,光學(xué)輪廓儀,原子力顯微鏡,光譜儀,測(cè)配色系統(tǒng)等實(shí)驗(yàn)室儀器和設(shè)備
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,制藥 |
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原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測(cè)核心,摒棄在尾氣氣路中檢測(cè)氣體分子的方法,實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。
該儀器的工作原理和方法為世界Innovation for the first time,與傳統(tǒng)化學(xué)吸附分析儀相比,除了體積更小巧外,本儀器具有樣品消耗量少、質(zhì)量分辨率高、控溫范圍廣、分析速度快等優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于TPD、TPR、TPO等程序升溫分析測(cè)試。
產(chǎn)品特點(diǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域
催化劑酸堿性
氧化/還原性
催化反應(yīng)
金屬分散度
競(jìng)爭(zhēng)性吸附
單點(diǎn)BET比表面積
吸/脫附動(dòng)力學(xué)
與光譜儀器聯(lián)用實(shí)現(xiàn)工況下原位實(shí)時(shí)表征
應(yīng)用實(shí)例
原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000
指標(biāo)名稱(chēng) | 參數(shù) |
質(zhì)量變化測(cè)量與控溫 | Phoenix系列自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片 |
樣品量 | 1 pg ~ 30 ng |
質(zhì)量變化分辨率 | ≤1 pg |
溫度控制范圍 | -196℃ ~ 1000℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度波動(dòng) | ±0.3℃ |
測(cè)量功能 | TPD、TPR、TPO、TPRx、金屬分散度、單點(diǎn)BET |
升溫速率 | 0.02 ~ 8000℃/s |
降溫速率 | 0.02 ~ 4000℃/s |
測(cè)量氣體 | 全防腐設(shè)計(jì),可通腐蝕性氣體 |
同時(shí)測(cè)試數(shù) | 雙通道 |
聯(lián)用 | 可與光學(xué)顯微鏡、顯微拉曼光譜儀、顯微紅外光譜儀等聯(lián)用 |
額定功率 | 50W |
主機(jī)尺寸(寬x深x高, cm) | 45 x 34 x 29 |