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          產(chǎn)品展廳

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          8寸快速退火爐

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          量伙半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司成立于2018年,位于上海市浦東新區(qū)。公司專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,為半導(dǎo)體芯片制造行業(yè)提供可靠的設(shè)備和高質(zhì)量的服務(wù)、

          公司在安徽合肥設(shè)有研發(fā)、生產(chǎn)基地,在北京、西安設(shè)有辦事處。

          公司自主研發(fā)的快速退火爐RTP具有出色的技術(shù)水平,已在Fab廠、研究所、高校等芯片生產(chǎn)單位得到廣泛應(yīng)用。


          Larcomse Equipment (Shanghai) Co., Ltd. was established in 2018 and is located in Pudong New Area, Shanghai. The company focuses on the R & D, production and sales of semiconductor chip equipment, providing high-end equipment and high-quality services for the semiconductor chip manufacturing industry


          The company has R & D and production bases in Hefei, Anhui Province, and offices in Beijing and Xi'an.


          The rapid annealing furnace RTP independently developed by the company has the leading technical level in China and has been widely used in fab factories, research institutes, universities and other chip production units.


          快速退火爐

          設(shè)備主要規(guī)格(Features):

          1.全自動(dòng)操作模式;

          2.Robot取放片;

          3.適應(yīng)于 6英寸-8英寸 Wafer;

          4..冷卻方式包括水冷和氮?dú)獯祾撸?/span>

          5.MFC控制,3-5路制程氣體;

          6.SEMI認(rèn)證。

           

          設(shè)備主要工藝應(yīng)用(Application):

          快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);

          離子注入/接觸退火;

          高溫退火;

          高溫?cái)U(kuò)散。

          金屬合金;

          熱氧化處理;

           

          設(shè)備主要應(yīng)用領(lǐng)域(Field):

          化合物半導(dǎo)體(砷化鎵、氮化物、碳化硅等);

          多晶硅;

          太陽(yáng)能電池片;

          MEMS;

          功率器件;

          IC晶圓;

          LED晶圓。



          RTARapid Thermal Annealing 快速熱退火。

          RTORapid Thermal Oxidation 快速熱氧化,主要用于生長(zhǎng)薄絕緣層。

          RTNRapid Thermal Nitridation 快速熱氮化。


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