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          產(chǎn)品展廳

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          Ion-Assisted PLD System 離子輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào) Ion-Assisted PLD System
          • 產(chǎn)地 美國
          • 廠商性質(zhì) 代理商
          • 更新時(shí)間 2024/5/9 9:59:12
          • 訪問次數(shù) 515

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          北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司成立于2001年,是一家經(jīng)營歐美等國測(cè)試儀器和設(shè)備,并將技術(shù)引入國內(nèi)的科技服務(wù)型企業(yè).經(jīng)過十年的發(fā)展,公司在北京、上海、廣州、合肥均設(shè)有辦事處。

          公司的主營儀器包括:分子相互作用分析儀器、表/界面分析測(cè)試儀器、半導(dǎo)體器件測(cè)試儀器、薄膜沉積與表征儀器等。

          公司愿意成為深刻了解客戶心理、全面滿足客戶需求,以應(yīng)用為基礎(chǔ)的專業(yè)儀器設(shè)備供應(yīng)商、專有技術(shù)提供商,實(shí)現(xiàn)公司在行業(yè)內(nèi)的超常規(guī)發(fā)展。





          產(chǎn)品主要涉及以下四個(gè)方面:1. 表面/界面2. 生物/藥物分子相互作用3. 界面/混凝土流變4. 薄膜沉積與表征

          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),航天,制藥,綜合

          產(chǎn)品簡介

          通過優(yōu)化PLD薄膜沉積速率和離子刻蝕速率,新瓷離子輔助PLD系統(tǒng)被用于在非晶或多晶基底上創(chuàng)建雙軸織構(gòu)模板(薄膜)。雙軸織構(gòu)通常是在室溫下進(jìn)行的,這有利于使用許多襯底,否則不允許高質(zhì)量的薄膜生長。氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯(YSZ)和相關(guān)材料,氧化鎂(MgO)是 universal 織構(gòu)材料。離子輔助PLD最初被提議用于在金屬基底上沉積雙軸織化高溫超導(dǎo)YBCO薄膜,它可以擴(kuò)展到許多技術(shù)上重要的基底,其中表面織化對(duì)應(yīng)用至關(guān)重要。在沉積雙軸紋理模板后,活性器件層,如YBCO, PZT, CIGS等可以在應(yīng)用程序確定的高溫下沉積。離子輔助PLD可以被看作是在沉積參數(shù)空間不足的情況下,在襯底和活性膜之間發(fā)展智能界面的一種方法。在許多應(yīng)用中,薄膜襯底組合對(duì)于器件的應(yīng)用是至關(guān)重要的。然而,如果所選的襯底不允許高質(zhì)量的薄膜生長,則可能有必要開發(fā)一種能夠克服襯底結(jié)構(gòu)和化學(xué)不相容的智能界面。離子輔助PLD可以通過改變成核過程或生長動(dòng)力學(xué)來創(chuàng)建氧化物或金屬的界面。

          離子輔助沉積已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或非晶襯底上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開發(fā)了離子輔助的 PLD 系統(tǒng),該系統(tǒng)將 PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與 IBAD 能力結(jié)合在一起。


          產(chǎn)品特點(diǎn)

          獨(dú)立的交鑰匙離子束輔助PLD系統(tǒng)。

          在非晶和多晶襯底上沉積雙軸織構(gòu)模板。

          外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。

          用RHEED診斷法沉積織構(gòu)MgO薄膜。

          氧化膜沉積的氧相容性。





























































































































          化工儀器網(wǎng)

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