AZ P4620 AZ4562 AZ正性光刻膠
- 公司名稱 武漢市洪山區(qū)萊博茲科學儀器經營部
- 品牌 其他品牌
- 型號 AZ P4620 AZ4562
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2021/4/6 9:37:08
- 訪問次數(shù) 811
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| 供貨周期 | 一個月以上 | 應用領域 | 化工,能源 |
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AZ P4620 正性光刻膠
超厚膜，高對比度，高感光度正型光刻膠，適用于半導體制造及GMR磁頭制造。
特征：
參考工藝條件
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G線步進式曝光機/接觸式曝光機
顯影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒
清洗 ：去離子水30秒
后烘 ：120℃ 60秒 (DHP)
剝離 ：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化
預處理：烘涂粘附劑
旋涂：4000rad/min 30s
前烘： 110℃ 120-180s
曝光：熒光光源20-25s
顯影：25%TMAH:H2O=1:7 40-60s
堅膜： 120℃ 120s
AZ 5214 E 圖像反轉光刻膠
這種特殊的光刻膠用于需要負壁輪廓的剝離技術。由酚醛清漆樹脂和萘醌二疊氮化物作為光敏化合物（PAC）組成的正性光致抗蝕劑，它們也能夠反轉圖像（IR），從而產生的掩模。
特 征
1）高分辨率，耐刻蝕，垂直性好
2）可反轉成負膠
3）做lift-of工藝
4）制作電極
5）旋涂厚度從0.5到6μm
AZ®4500系列
具有粘附力的厚光刻膠
特點：
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）是正性厚光刻膠，在普通濕法蝕刻和電鍍工藝中具有優(yōu)良的粘附性能：
l 優(yōu)化對所有常見基材的附著力
l 寬廣的工藝參數(shù)窗口，可實現(xiàn)穩(wěn)定且可重復的光刻工藝
l 與所有常見的顯影液兼容（基于KOH或TMAH）
l 與所有常見的去膠劑兼容（例如AZ100去膠劑、有機溶劑或堿性溶劑）
l 對g，h和i線敏感（約320-440 nm）
l 光刻膠厚度范圍約 3-30微米
AZ ® 4500系列（AZ ® 4533和AZ ® 4562）的溶劑濃度不同，可達到的光刻膠膜厚有較大的范圍：
光刻膠型號 | 光刻膠膜厚范圍 | 包裝規(guī)格 |
AZ ® 4533 | 轉速為4000 rpm時，膜厚約為3.3 µm；通過改變轉速，膜后可達2.5-5 µm。 | 多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等 |
AZ ® 4562 | 轉速為4000 rpm時，膜厚約為3.3 µm；通過改變轉速，膜后可達4.5-10 µm；調整旋轉輪廓（中等旋涂速度下短時間旋涂），可達30 µm膜厚。 | 多規(guī)格包裝，如1L、2.5L等 |
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