可在基本的水顯影劑中顯影的負(fù)性光刻膠
 
特性
厚度范圍：<0.1-120.0 µm
對波長小于380nm的靈敏度
優(yōu)于表面拓?fù)涞木€寬控制
直側(cè)壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應(yīng)用了150°C的軟烘烤，烘烤時間更短（對于厚膜至關(guān)重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，從而提高蝕刻速率和蝕刻產(chǎn)量
消除使用粘合促進(jìn)劑


  RIE /離子耐高溫          厚度                           濕法蝕刻                           厚度
                                                                        增強(qiáng)附著力

    NR7-250P             0.2um-0.6um                     NR9-250P                       0.2um-0.6um
    NR7-1000P           0.7um-2.1um                     NR9-1000P                  0.7um-2.1um
    NR7-1500P           1.1um-3.1um                     NR9-1500P                  1.1um-3.1um
    NR7-3000P           2.1um-6.3um                     NR9-3000P                  2.1um-6.3um
    NR7-6000P           5.0um-12.2um                   NR9-6000P                  5.0um-12.2um
    NR5-8000             5.8um-100.0um                 NR9-8000P                  6.0μm-100um

耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫           耐溫性= 100°C。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑        NR9系列抗蝕劑具有增強(qiáng)的附著力
                                                                                   在25°C時易于剝離。

Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR
抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm線/間隔
曝光劑量：1100 mJ / cm 2。
焦點(diǎn)偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步進(jìn)土星
模型，i-line

另有：NR9G     g和h線曝光用粘度增強(qiáng) 具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
           NR71G   g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應(yīng)用并能作為隔層