NX-B100多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓?。?/span>

Nanonex納米壓印光刻機(jī)

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-B200多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印）

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長(zhǎng)可選；全自動(dòng)化控制

NX-1000多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓?。?/span>

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

NX-2000多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)（熱壓印和紫外壓印）

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長(zhǎng)可選；全自動(dòng)化控制

NX-2500

多功能整片基板帶對(duì)準(zhǔn)功能多層次的納米壓印系統(tǒng)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長(zhǎng)可選；全自動(dòng)化控制

帶對(duì)準(zhǔn)功能（亞1微米對(duì)準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印

對(duì)準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺(tái)

分場(chǎng)光學(xué)和CCD相機(jī)

NX-2600

多功能整片基板帶對(duì)準(zhǔn)功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng)

可選背面對(duì)準(zhǔn)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長(zhǎng)可選；全自動(dòng)化控制

帶對(duì)準(zhǔn)功能（亞1微米對(duì)準(zhǔn)精度） 多層次的納米壓印

對(duì)準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺(tái)

分場(chǎng)光學(xué)和CCD相機(jī)

標(biāo)配5”模板,標(biāo)配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源

Lumina200多功能高精度光刻機(jī)

4寸基板，5寸掩膜

Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態(tài)鍍膜系統(tǒng)

Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc)  Up to 8”×8”