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          鈣鈦礦鍍膜機(jī)

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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            沈陽科晶立足國內(nèi)市場實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

            沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

            沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

           

          我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

                您正在為材料與設(shè)備無從下手而焦急嗎?

          歡迎來到沈陽科晶,我們是國內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

           

           

           

           

           

           

           

           

          切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1-5萬

              鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過程中樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。

          產(chǎn)品名稱

          鈣鈦礦鍍膜機(jī)

          主要特點(diǎn)

          1、樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。

          2、設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品,烘烤加熱溫度可達(dá)180℃。

          3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

          技術(shù)參數(shù)

          1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×

                     450mm×450mm

          2、真空排氣系統(tǒng)采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)

          3、真空度鍍膜室極限真空6×10-4Pa

          4、系統(tǒng)漏率:1×10-7Pa

          5、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上;有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,可測溫、

                     控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺蒸發(fā)電

                     源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開

                     啟

          6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上,可放置Ø120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm

          7、加熱溫度:RT-180℃,測溫、控溫

          8、膜厚控制儀石英晶振膜厚控制儀,膜厚測量范圍0-999999Å



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