近正常光譜反射儀是用于工業(yè)和研究領(lǐng)域薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc 的 NNSR（型號：HO-NNSR-02）能夠高速、高重復(fù)性地分析薄膜

厚度、復(fù)折射率和表面粗糙度。NNSR 理論采用菲涅爾方程的復(fù)雜矩陣形式。絕對反射光譜是反射儀的原理，即反射光束（通常為多色）的強(qiáng)度與

入射光束強(qiáng)度的比值。通常入射到樣品表面的光束會從薄膜的頂部和底部反射出來，這些光束會受到干擾，并通過光纖（雙纖光纖）經(jīng)計算機(jī)傳導(dǎo)

到連接光譜儀的 CCD 上。在監(jiān)視器上，我們可以看到與薄膜厚度成正比的干涉振蕩光譜圖。

                                                                                           規(guī)格

薄膜厚度范圍：25 納米 - 3.5 微米

    FFT 厚度范圍：3500 納米 - 35 微米

    光譜儀波長范圍：340 納米 - 940 納米

    反射波長范圍：390 納米 - 940 納米

    光源：鹵鎢燈石英燈，20 和 50 瓦（定制）

    探測器：CCD 線性陣列，3648 像素

    傳輸方式：雙纖（玻璃芯和 PMMA 包層］

    薄膜疊層精度：± < 1 nm

    同一疊層的精度：± < 2 nm（無粗糙度）（與 SEM 比較）

    樣品上的光斑尺寸：120 微米（使用 5 倍 SLWPA 物鏡

    工作距離：3 毫米

    光纖：帶 SMA 的多模雙芯光纖

    掃描：手動（千分尺控制 15 毫米掃描）

    參考樣品：裸 NSF66 / 裸鋁（定制） / 普通玻片

    深色樣品：N-Bk7 黑色涂層/保持 45° 的鋁鏡（定制）

    標(biāo)準(zhǔn)樣品：NSF-66 基底上的 SiO2 薄膜 / Bk7 基底

    測量模式 ：    曲線擬合/回歸算法、FFT、FFT + 曲線擬合

    分散公式：Cauchy、Sellmeier 和經(jīng)驗?zāi)Ｐ?/span>

    EMA 模型：線性 EMA、Bruggemann、Maxwell Garnett 模型

    PC 接口：USB

特點

    分析單層和多層薄膜（間接法）

    光纖探頭用于測量正常入射角的反射率。

    CCD 線性陣列探測器，用于絕對反射率測量。

    采用 Levenberg - Marquardt 曲線擬合算法進(jìn)行厚度測量。

    基于 FFT 的厚層厚度測量，PET 薄膜標(biāo)準(zhǔn)化。

    用于粗糙度測量的線性、布魯格曼和麥克斯韋石榴石近似模型。

    吸收和透射研究。

    針對 n 和 k 值的參數(shù)化分散模型，如 Cauchy、sellimier、組合和 drude。

    用戶可擴(kuò)展材料庫

    數(shù)據(jù)可保存為 Excel 文件，用于提取光學(xué)特性