什么是小型電子元件專用氣密檢查裝置?
該設(shè)備對晶體器件、陶瓷諧振器、光學器件、功率半導體、CAN器件、激光二極管、MEMS器件、SAW濾波器、小型繼電器和電容器等需要氣密性的小型電子元件進行泄漏測試。密封產(chǎn)品的泄漏檢測需要兩種檢查:粗漏檢測和細漏檢測。我們擁有可在一臺機器上完成整個過程的全自動機器、特殊機器(定制)以及便于抽樣檢查的臺式類型。
測量超微泄漏
MEMS元件和角速度傳感器、紅外圖像傳感器等小型電子元件需要多年保持其內(nèi)部密封性能,并要求具有高度的氣密性。
福田開發(fā)了一種稱為“膠囊累積法”的高靈敏度氦氣泄漏檢測技術(shù),用于測量超微量泄漏。
MUH-0100系列是一款采用“膠囊累積法”的氣密性檢測裝置,專用于測量超微量泄漏。
超細泄漏測試系統(tǒng)
該系統(tǒng)是利用精細泄漏試驗(真空室法)和超精細泄漏試驗(膠囊堆積法)進行氣密性檢查的裝置。
測量范圍
當考慮到背景效應時,傳統(tǒng)方法中的氦氣泄漏量約為10 -10 Pa · m 3 / s(He),但采用該*可測量的泄漏量因工件類型和條件而異。
圖1:氦泄漏量的測量范圍
什么是“膠囊堆積法”?
膠囊積聚法是一種通過在大容積“腔室”內(nèi)安裝小容積“膠囊”來測量氦氣泄漏的方法,以檢測工件(測試品)中微小的氦氣泄漏。 使用以下步驟 ① 至 ③ 測量小泄漏。
[測量流程]
① 將裝有工件(測試品)的“膠囊”和“腔室”抽真空,封閉“膠囊”,并
累積氦氣至質(zhì)譜儀可以檢測到的水平。
② 打開“膠囊”,將“膠囊”內(nèi)的氣體釋放到“腔室”中。
③擴散的氦氣變成分子流,通過“孔徑”,被質(zhì)譜儀測量。
圖2:原理圖
“膠囊堆積法”的特點
顯著降低背景。
可檢測超微量氦氣泄漏。
氦泄漏測定能力*4×10 -15 Pa?m 3 /s (He) ~
*當存儲時間為2小時時。
這取決于爆炸條件、膠囊尺寸和靜置時間等測試條件。
減少氦氣以外的氣體的影響,
無需加熱器或低溫泵,啟動時間和維護
與常規(guī)氦檢漏儀相同。
市售的標準漏孔可用于校準氦氣累積。
圖2:原理圖
圖 3 顯示了與所需氦氣靈敏度(縱軸)相對應的累積時間(橫軸)。
測量超細泄漏時的注意事項
關(guān)于封裝材料:
如果封裝或接合表面材料含有玻璃,氦氣會透過并粘附在玻璃上。請?zhí)崆白⒁馐褂玫牟牧?。允許的氦氣滲透量和附著量必須約為測量泄漏量的 1/10 或更少。
關(guān)于粗漏如果存在粗漏,工件內(nèi)部的氦氣會在短時間內(nèi)
逸出 ,使得細漏測量值/s(等效標準泄漏率)必須準確測量。對于大泄漏測量,請使用推薦的粗泄漏測試系統(tǒng)。確保 試件內(nèi)容積為0.1mm3以上。
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