手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
芯片制造中薄膜厚度怎么測量？
在半導體制造業(yè)中，薄膜的厚度對器件的性能和質(zhì)量有重要影響。在制造過程中，晶圓要進行多次各種材質(zhì)的薄膜沉積，因此薄膜的厚度及其性質(zhì)（如折射率和消光系數(shù)）需要準確地確定，以確保每一道工藝均滿足設(shè)計規(guī)定。光學薄膜測量設(shè)備的光譜測量方式主要分為橢圓偏振和垂直反射兩種。在橢圓偏振方式下，光源發(fā)出的光經(jīng)由起偏器、光學聚焦系統(tǒng)，以一定的角度入射圓片，經(jīng)過表面膜層和硅襯底反射的光學系統(tǒng)和起偏器，由光譜儀接受。通過對膜厚和薄膜光學常數(shù)等變量進行回歸迭代逼近，使計算光譜和實測光譜吻合，最終所得到的迭代值即為所測薄膜的厚度和光學常數(shù)。
垂直反射式測量得到的只是圓片表面的垂直反射光譜，不包含偏振光的位相變化的信息，且必須通過與事先在標準裸圓片上測得的反射光譜對比才能得到樣品的垂直反射率。垂直反射式測量相比橢圓偏振式測量，靈敏度要更低，主要用于較厚薄膜和單層膜的厚度測量。
臺式離線接觸式測厚儀
質(zhì)量控制、研究和開發(fā)應(yīng)用的理想選擇
| 模型 | TOF-4R05 |
|---|---|
| 測量方法 | 接觸式/線性規(guī)/夾緊方式 |
| 測量目標 | 薄膜、片材 |
| 測量原理 | 線性規(guī)/夾緊法 |
產(chǎn)品特點
輕松快速的離線厚度測量
測量數(shù)據(jù)實時顯示在屏幕上
測量數(shù)據(jù)還可以自動保存到您的計算機中。
由于測量是自動進行的，因此測量數(shù)據(jù)不存在個體差異。
雷達圖也可用于調(diào)整吹塑薄膜。
由于采用夾層法進行測量，因此即使是有卷曲等的厚紙也可以測量。
產(chǎn)品規(guī)格
| 測量厚度 | 0.03～3mm |
|---|---|
| 測量長度 | 10～10000mm |
| 測量間距 | 1毫米~ |
| 最小顯示值 | 0.5微米 |
| 測量壓力 | 0.6±0.1N |
| 電源電壓 | AC100~240V 50/60Hz |
| 工作溫度限制 | 5～40℃ |
| 濕度 | 35-80%（無冷凝） |
| 能量消耗 | 50 VA（不包括電腦） |
| 選項 | ?卷紙打印機輸出功能 ?0.1mm間距測量功能 ?連續(xù)測量功能 ?各專用探頭 ?圖像轉(zhuǎn)印功能 ?壓紙機構(gòu) ?輸送速度顯示 |
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心