EMG對中光源 LIC1375/01停產(chǎn)升級成LIC1375/11 德國產(chǎn)

EMG對中光源 LIC1375/01停產(chǎn)升級成LIC1375/11 德國產(chǎn)EMG伺服閥,EMG測量傳感器,寧波秉圣直接德國閥,控制板糾偏裝置,極優(yōu)產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于冶金,石化行業(yè),造紙行業(yè) , 價格極優(yōu).我們有獨立的進口報關(guān)權(quán)，可以為您提供海關(guān)清關(guān)單，如果需要原產(chǎn)地證明我們也可以為您提供的。德國EMG伺服閥總之我們保證您從我們家采購的產(chǎn)品保證。

品牌中文品名規(guī)格型號數(shù)量

EMG控制器iCON XE 6.01

EMGCPC/EPC模塊ICON SE 02.0 1

EMGICON XE02.01

EMG糾偏控制器ICON XE 06.02

EMG對中控制器ICON SE02.0-24V1

EMG中央控制單元ICON SE 02.0 ID：235971-000946071

EMG控制器ICON SE02.0 24VDC1

EMG糾偏控制器iCON SE 02.0 T-Nr:235 9711

EMG控制器ICON SE 01.02

EMG發(fā)射器LIC1375/012

EMG對中燈架LIC1375/111

EMG易安基LIC1075/011

EMG日光燈Lic1075/012

EMG光源發(fā)射器LIC770/012

EMG對中燈座2800橫切機 EMG LIC1075/111

EMG光源發(fā)射LIC480/011

EMG光發(fā)射器LIC1075/112

EMG光源發(fā)射器LLS675/01 LICHTBAND1

EMG光源傳感器LIC 770/11 LICHTBAND1

EMG對中整流器LLS675/02 LICHTBAND1

EMG糾偏控制面板iCON VS 01，EMG1

EMG糾偏擴展模塊EMG iCON IO 01.0，EMG1

EMG操作面板ICON VS T-Nr 137.0631

EMG觸摸屏137063_E iCON VS 01 mit1

EMG控制器模塊iCON VS T-Nr:137 0631

EMG電路板LIC2.01.11

EMG對中數(shù)字式控制器iCON SE/AE10541

EMG易安基LLS675/01 LICHTBAND2

EMG易安基ESA10-800/-/E/IC/IFS/011

EMG光源發(fā)射器LIC770/11配10套卡箍寄10套插頭2

EMG糾編AE1054WITHICON-XEECU1

與數(shù)字掃描式光電測量裝置配套的LIE系列高頻光源，是30 KHz供電的，包括下列型號：LIE480、LIE770、LIE1075、LIE1375，其有效發(fā)光長度分別是：480 mm、770 mm、1075 mm、1375 mm。

從上面的測量原理描述中可以看出，數(shù)字掃描式光電測量傳感器實際測量到的是被測物邊緣位置與傳感器中心軸線的夾角，被測板帶的上下波動直接反映測量值的變化。所以使用這種傳感器時，要板形較好，沒有浪邊；張力控制穩(wěn)定，板帶沒有上下抖動。如果在測量前后增加穩(wěn)定輥會取得很好的效果。對于板帶有規(guī)律的波動，也可以采用數(shù)字濾波的處理方法，當(dāng)然這是以犧牲測量速度為代價的。

由于采用數(shù)字成像掃描的工作原理，使用高分辨率光學(xué)鏡頭，所以對鏡頭的維護需要特別注意，光學(xué)鏡頭必須定期擦拭以保證最佳的測量效果。擦拭的時間間隔取決與現(xiàn)場的污染和灰塵累積程度，在鏡頭上如有飛濺斑點將影響測量結(jié)果。不要使用溶劑和有腐蝕性的化學(xué)品清洗光源 (如果必要，采用專用清洗液除去污漬)。

平行光式的光電測量裝置可以配套使用兩種不同頻率的交變光源。PLM傳感器與50/60 Hz工頻光源配套；HF-PLM傳感器與2 KHz高頻光源配套。PLM和HF-PLM傳感器都采用了相應(yīng)頻率的帶通濾波器(100/120 Hz和4 KHz)，因此對非接收頻率的外來光干擾有很好的抑制作用。需要指出的是與50/60 Hz工頻光源配套PLM傳感器對于同樣是50/60 Hz工頻供電的光源的干擾抑制能力較差(例如50/60 Hz工頻供電的高壓汞燈、高壓鈉燈等)。

H4系列交變光源是50/60 Hz工頻供電的，全系列包括下列型號：H418、H430、H436、H458，它們的有效發(fā)光長度分別是：500mm、800mm、1100mm、1400mm。LIC系列交變光源是2 KHz高頻供電的，全系列包括下列型號：LIC480、LIC770、LIC1075、LIC1375，它們的有效發(fā)光長度分別是：480mm、770mm、1075mm、1375mm。這兩種系列光源在后面會做詳細(xì)介紹。

平行光式的光電測量裝置對于光源變化的抑制能力不強，光通量的變化直接反映到檢測信號的強弱。平行光式的光電測量裝置一般用于對中測量，因為對中測量是取兩邊測量信號的差值，當(dāng)差值為零時就認(rèn)為板帶在中心位置，所以當(dāng)兩側(cè)光源變化一致時對測量沒有影響。只有在要求不高的場合，才能將平行光式的光電測量裝置用于對邊測量。

平光式的光電測量裝置開口度(測量裝置和光源之間的距離)可以達(dá)到2m，板帶上下的波動對于測量的影響很小，可以忽略不計。

EMG光源發(fā)射器主要應(yīng)用

糾偏系統(tǒng) 開卷機、卷取機開卷機糾偏系統(tǒng)

帶時間差補償?shù)募m偏系統(tǒng)

卷取機糾偏系統(tǒng)

板帶糾偏系統(tǒng)比例調(diào)節(jié)糾偏系統(tǒng)

比例積分調(diào)節(jié)糾偏系統(tǒng)

SRHT型三輥糾偏系統(tǒng)

耐腐蝕的糾偏系統(tǒng)

安裝在爐內(nèi)的糾偏系統(tǒng)

板帶對中的寬度測量裝置電感式測量裝置

光電式測量裝置

板帶對中系統(tǒng)

EMG光源發(fā)射器傳感器系統(tǒng)

產(chǎn)品名稱

BMI電感式檢測框架inductive strip centre sensing system BMI

BMIH高精度電感式傳感器 inductive strip centre sensing system BMIH

BMI4電感式傳感器inductive edge sensor BMI4

CCD Pro 光電傳感器

EKI/EMI電感式傳感器

EVK/EVM參比式光電傳感器sensor positioning device strip centre EVM,EVK

IMH耐高溫電感式傳感器inductive strip centre sensing system IMH

IMR耐腐蝕電感式傳感器inductive strip centre sensing system IMR

LIC高頻光源發(fā)射器light unit compact LIC strip centre sensor

LS43-44光電傳感器alternating light sensor LS43-44

LID43光源發(fā)射器LED light emitter LID43

VKI電感式傳感器inductive strip edge position sensing VKI edge sensor

 EMG光源發(fā)射器的產(chǎn)品和解決方案主要應(yīng)用在以下領(lǐng)域：

托舉和傳輸技術(shù)

港口和起重機

鋼鐵金屬行業(yè)

顧客永遠(yuǎn)是我們業(yè)務(wù)的焦點。我們用的靈活的設(shè)備，專業(yè)的建議和個性化定制的服務(wù)為客戶的成功鋪橋搭路，獲得客戶的滿意。

歸功于多年的經(jīng)驗積累，基于我們持續(xù)不斷的對創(chuàng)新產(chǎn)品技術(shù)和高品質(zhì)要求的更新更遠(yuǎn)的追求，我們確信能夠為客戶提高競爭力做出我們自己的貢獻。我們目標(biāo)在于讓我們的客戶，員工和投資者對深刻注意到我們出色的服務(wù)和我們基于互信真誠的合作。

EMG為客戶提供堅實的可靠性和智能化的創(chuàng)新。我們服務(wù)的核心就是顯著提高所有產(chǎn)品生產(chǎn)效率。EMG集團下的系列產(chǎn)品，單體設(shè)備以及綜合系統(tǒng)解決方案，主要應(yīng)用在冶金，造紙，塑料，錫箔以及輪胎等行業(yè)的連續(xù)生產(chǎn)處理上。EMG板帶糾偏系統(tǒng)和質(zhì)量保證系統(tǒng)的解決方案全球穩(wěn)定，為創(chuàng)新提供驅(qū)動力?；趯κ袌鲂枨蟮纳钸h(yuǎn)理解，我們將與我們的客戶一道為新技術(shù)應(yīng)用和未來業(yè)務(wù)劃分鋪平道路。在此方向上，我們用我們高質(zhì)量的服務(wù)和創(chuàng)新思維積極塑造市場，

EMG光源發(fā)射器為確保安全和質(zhì)量要求，請使用EMG服務(wù)：

考慮產(chǎn)品改進

光源發(fā)射器可修復(fù)如新

備件庫存充足

用同樣的光源發(fā)射器替代過時的光源發(fā)射器

年保修

電力液壓鼓式和盤式制動器的BRAKEMATIC®控制部分由一個可編程的變頻器和多功能模塊組成（踏板，外部和內(nèi)部的參數(shù)化接口，帶測量傳感器的過程控制模塊）。頻率的變化是由變頻器的輸出生成的。它被用于控制電力液壓光源發(fā)射器以改變其液壓力。ELDRO®裝置合成的驅(qū)動力抵制制動系統(tǒng)的制動力，即，制動過程的控制通過這種相互關(guān)系得以實現(xiàn)。

一個BRAKEMATIC®控制系統(tǒng)適用于同步控制多個制動器，制動系統(tǒng)的功能和操作模式是相同的。所有ELDRO®裝置的電流輸入值的總和與選擇的BRAKEMATIC®規(guī)格相匹配。

品牌中文品名規(guī)格型號數(shù)量

EMG發(fā)射器LIC1375/012

EMG對中燈架LIC1375/111

EMG易安基LIC1075/011

EMG日光燈Lic1075/012

EMG光源發(fā)射器LIC770/012

EMG對中燈座2800橫切機 EMG LIC1075/111

EMG光源發(fā)射LIC480/011

EMG光發(fā)射器LIC1075/112

EMG光源發(fā)射器LLS675/01 LICHTBAND1

EMG光源傳感器LIC 770/11 LICHTBAND1

EMG對中整流器LLS675/02 LICHTBAND1

EMG電路板LIC2.01.11

EMG易安基LLS675/01 LICHTBAND2

EMG光源發(fā)射器LIC770/11配10套卡箍寄10套插頭2

EMG對中整流器LLS675/02 LICHTBAND1

EMG控制光源LLS475/011

EMG糾偏探頭LS43.01/24/KG1

EMG傳感器LS14.012

EMG對中等管發(fā)生器LLS480/011

EMG發(fā)射器LLS1075/03/252

EMG傳感器231165LS13.011

EMG光源發(fā)射器LLS 1075/011

EMG光源反射器LLS1.012 3917821

EMG光源電路板LLS1.3 2359971

EMG光源框架LLS1.002 3917781

EMG易安基391627 LLS 875/011

EMGLSPE-800.02C/L/R/01

EMG易安基391625-00322053LLS675/01 LICHTBAND2

EMG光源發(fā)射器LLS675/01 LICHTBAND1

EMGLLS1.0181

EMG探測頭LS43.011

EMGLLS 675/011

EMG光電設(shè)定單LS14.011

EMG自動對中探頭LS13.011

EMG光源電路板LLS1.3 2359971

EMG光源反射器LLS1.012 3917821

EMG光源框架LLS1.002 3917781

EMG光源電路板LLS1.3 2359971

EMG光源反射器LLS1.012 3917821

EMG光源框架LLS1.0021

EMG對中光源 LIC1375/01停產(chǎn)升級成LIC1375/11 德國產(chǎn)EMG伺服閥,EMG測量傳感器,寧波秉圣直接德國閥,控制板糾偏裝置,極優(yōu)產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于冶金,石化行業(yè),造紙行業(yè) , 價格極優(yōu).我們有獨立的進口報關(guān)權(quán)，可以為您提供海關(guān)清關(guān)單，如果需要原產(chǎn)地證明我們也可以為您提供的。德國EMG伺服閥總之我們保證您從我們家采購的產(chǎn)品保證，。

EMG對中光源 LIC1375/01停產(chǎn)升級成LIC1375/11 德國產(chǎn)