1. cDNA產(chǎn)量的很低
可能的原因:
*RNA模板質(zhì)量低
*對(duì)mRNA濃度估計(jì)過高
*反應(yīng)體系中存在反轉(zhuǎn)錄酶抑制劑或反轉(zhuǎn)錄酶量不足
*同位素磷32過期
*反應(yīng)體積過大,不應(yīng)超過50μl
2. 擴(kuò)增產(chǎn)物在電泳分析時(shí)沒有條帶或條帶很淺
*最常見的原因在于您的反應(yīng)體系是PCR的反應(yīng)體系而不是RT-PCR的反應(yīng)體系
*與反應(yīng)起始時(shí)RNA的總量及純度有關(guān)
*建議在試驗(yàn)中加入對(duì)照RNA
*第一鏈的反應(yīng)產(chǎn)物在進(jìn)行PCR擴(kuò)增時(shí),在總的反應(yīng)體系中的含量不要超過1/10
*建議用Oligo(dT)或隨機(jī)引物代替基因特異性引物(GSP)用于第一鏈合成。由于RNA模板存在二級(jí)結(jié)構(gòu),如環(huán)狀結(jié)果,有可能導(dǎo)致GSP無法與模板退火;或SSⅡ反轉(zhuǎn)錄酶無法從此引物進(jìn)行有效延伸。
*目的mRNA中含有強(qiáng)的轉(zhuǎn)錄中止位點(diǎn),可以試用以下方法解決:
a. 將第一鏈的反應(yīng)溫度提高至50℃。
b. 使用隨機(jī)六聚體代替Oligo(dT)進(jìn)行第一鏈反應(yīng)。
3. 產(chǎn)生非特異性條帶
*用RT陰性對(duì)照檢測(cè)是否被基因組DNA污染。如果RT陰性對(duì)照的PCR結(jié)果也顯示同樣條帶,則需要用DNase I重新處理樣品。
*在PCR反應(yīng)中,非特異的起始擴(kuò)增將導(dǎo)致產(chǎn)生非特異性結(jié)果。在低于引物Tm 2至5℃的溫度下進(jìn)行退火,降低鎂離子或是目的DNA的量將減少非特異性結(jié)果的產(chǎn)生。
*由于mRNA剪切方式的不同,根據(jù)選擇引物的不同將導(dǎo)致產(chǎn)生不同的RT-PCR結(jié)果。
4. 產(chǎn)生彌散(smear)條帶
*在PCR反應(yīng)體系中第一鏈產(chǎn)物的含量過高
*減少引物的用量
*優(yōu)化PCR反應(yīng)條件/減少PCR的循環(huán)次數(shù)
*在用DNase處理被DNA污染的RNA樣品時(shí),其產(chǎn)生的寡核苷酸片段會(huì)產(chǎn)生非特異性擴(kuò)增,一般會(huì)顯示為彌散背景。
5. 產(chǎn)生大分子量的彌散條帶
*大多數(shù)情況下是由于退火溫度過低而導(dǎo)致的非特異性的起始及延伸產(chǎn)生的
*對(duì)于長(zhǎng)片段的PCR,建議將反應(yīng)體系中cDNA的濃度稀釋至1:10(或1:100-1:200)
6. 在無反轉(zhuǎn)錄酶的情況下,對(duì)照RNA獲得擴(kuò)增結(jié)果
*通常是由于對(duì)照RNA中含有痕量DNA而導(dǎo)致的。由于進(jìn)行體外轉(zhuǎn)錄時(shí)不可能將所有的DNA模板消除。建議可將第一鏈cDNA稀釋1:10、1:100、1:1000倍以消除DNA污染所造成的影響。
*有可能是引物二聚體的條帶
7. 擴(kuò)增產(chǎn)物滯留在加樣孔中
*有可能是由于模板量過高而導(dǎo)致PCR結(jié)果產(chǎn)生了高分子量的DNA膠狀物。建議將第一鏈結(jié)果至少稀釋100倍再進(jìn)行二次擴(kuò)增。
*另外,在二次PCR時(shí)使用的退火溫度如果比引物的Tm值低5℃,可以將退火溫度適當(dāng)增高或進(jìn)行熱啟動(dòng)以提高特異性。
8. SSⅢ與SSⅡ有何不同?
*具有更高的熱穩(wěn)定性(達(dá)50℃)
*具有更長(zhǎng)的半衰期(達(dá)220分鐘)
*對(duì)PCR無抑制
*干冰運(yùn)輸
*Tdt活性更低
9. 為什么有人更喜歡用SSⅢ而不是ThermoScript?
ThermoScript如果保存不當(dāng)會(huì)引起活性很快降低,SSⅢ則更穩(wěn)定。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。