磁性存儲介質(zhì)材料取得新進展,振動樣品磁強計提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)!
近幾十年來,由于L10有序的FePt薄膜具有極大的磁各向異性能量密度,在高密度熱輔助磁記錄(HAMR)介質(zhì)中具有潛在的應(yīng)用前景,引起了研究人員的關(guān)注。通過添加Au、Ag、Cr、Mn、Cu、Ni等第三元素,可以控制FePt合金膜的磁性各向異性、居里溫度、結(jié)構(gòu)有序溫度和晶體對數(shù)取向等材料特性,從而滿足更多領(lǐng)域的應(yīng)用。
近期,來自印度Darrang大學(xué)的R.K. Basumatary等研究者探究了不同含量和不同條件下制備的Co摻雜FePtCo薄膜FCC結(jié)構(gòu)對磁性能的影響,以及Cu插入層對晶體生長結(jié)構(gòu)和表面粗糙度的影響,該工作被發(fā)表在Journal of Alloys and Compounds期刊上。
在該項工作中,研究者利用MicroSense EZ系列振動樣品磁強計分別對三種不同制備方式,不同Co元素摻雜組分的FePtCo三元合金薄膜的磁學(xué)性能進行了表征。研究表明,在原位退火和Cu插層加持的情況下,隨著Co摻雜量的增加,Co和FePt亞晶格之間的反鐵磁耦合FePtCo薄膜的磁化強度和有效磁各向異性能會降低。然而,在退火后處理后,Co的摻雜會增強FePtCo薄膜的鐵磁性質(zhì)。當Co摻雜量為11%時,薄膜的Ms達到最大值, 17% Co摻雜時薄膜的Ms明顯降低,這表明17% Co摻雜時反鐵磁耦合占主導(dǎo),導(dǎo)致磁矩減小。11%和17% Co摻雜的性能存在明顯差異,證明Co摻雜量的不同會導(dǎo)致磁耦合類型、磁矩大小、磁各向異性和晶粒尺寸等方面的變化。
此外,文章還提到插入2 nm Cu底層的FePtCo薄膜不僅表現(xiàn)出了較大的有效磁各向異性能量和凈磁化強度,增強了FePtCo薄膜的磁性能,還可以減小薄膜表面的粗糙度,使其表面更加光滑。綜上兩點,插入Cu底層可以改善FePtCo薄膜的磁性能和表面形貌,使其具有潛在的應(yīng)用價值。
其中,該項研究團隊通過MicroSense EZ系列振動樣品磁強計對材料進行面內(nèi)、面外磁場的磁滯回線、表征矯頑力、飽和磁化強度等參數(shù)的表征,探究了制備方式和Co摻雜密度等對FePtCo薄膜磁學(xué)性能的影響。綜上所述,F(xiàn)ePtCo三元合金薄膜具有磁存儲器件應(yīng)用的潛力。
圖1. 室溫M-H遲滯曲線,以及合金薄膜矯頑力和飽和磁化強度隨Co含量的變化圖。
(左:沉積FePtCo三元合金薄膜。右:原位退火FePtCo合金薄膜。)
圖2. 2 nm Cu襯底上沉積的FePtCo合金薄膜的室溫M-H遲滯曲線。
圖3. (a)Cu插層膜的Hc和Ms的變化圖,(b)三種條件下沉積的所有薄膜的Keff
隨FePtCo合金薄膜Co含量的變化圖。
圖4. 三種條件下沉積的FePtCo薄膜飽和磁化強度圖。
本文提到的振動樣品磁強計由MicroSense公司自主研發(fā),該公司目前被美國半導(dǎo)體研發(fā)機構(gòu)科磊公司收購,在振動樣品磁強計方面具備35年的生產(chǎn)研發(fā)經(jīng)驗。EZ系列電磁體振動樣品磁強計具有高精度、高穩(wěn)定性等特點,可探測10-7 emu以下的磁矩數(shù)據(jù),可準確測量磁性材料的基本磁性能,如磁化曲線,磁滯回線,退磁曲線,熱磁曲線等,得到相應(yīng)的各種磁學(xué)參數(shù),如飽和磁化強度 M,剩余磁化強度,矯頑力H,最大磁能積,居里溫度,磁導(dǎo)率(包括初始磁導(dǎo)率)等,對粉末、顆粒、薄膜、液體、塊狀等磁性材料樣品均可測量。
在常規(guī)磁學(xué)測量基礎(chǔ)上,可選配各類選件以滿足更多功能的測量。變溫選件可以擴展測量溫度,可擴展范圍為100K至1300K;快速掃場選件可提升掃場速率,可達1T/s,每秒可獲取1000個數(shù)據(jù)點;高場選件可提升最大背景磁場;高磁矩選件可以探測30 emu的大磁矩信號;磁電阻選件可以進行電學(xué)方面的測量;矢量選件可實現(xiàn)X和Y軸兩個方向磁矩同時測量;自動進樣選件可實現(xiàn)批量全自動測量。另外新增磁光克爾選件、鐵磁共振選件、可進行更多應(yīng)用領(lǐng)域的磁學(xué)測量。
振動樣品磁強計EZ系列
MicroSense與QD公司合作超過20年,QD公司擁有一支專業(yè)、成熟的售后團隊,具備超卓的MicroSense EZ系列VSM產(chǎn)品售后服務(wù)能力,選購該產(chǎn)品的國內(nèi)用戶可以享受到技術(shù)能力強、響應(yīng)速度快的售后服務(wù)。
MicroSense EZ系列VSM已在國內(nèi)各大高校、企業(yè)落戶,在相關(guān)磁學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著及其重要的作用。近幾年國內(nèi)MicroSense VSM用戶有: 清華大學(xué)、中北大學(xué)、東華理工大學(xué)、華僑大學(xué)、中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)、東北大學(xué)、寧夏大學(xué)、河北工業(yè)大學(xué)、季華實驗室、以及青島、杭州地區(qū)工業(yè)用戶等。
【參考文獻】
[1] R.K. Basumatary et al., Journal of Alloys and Compounds 955 (2023) 170313
【部分安裝現(xiàn)場圖】
中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) MicroSense EZ7安裝圖
季華實驗室 MicroSense EZ9安裝圖
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