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離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。
基本原理為以荷能正離子對靶電極轟擊使得濺射現(xiàn)象產(chǎn)生為基礎(chǔ)。在基臺(tái)上樣品表面靶被濺射出來的中性原子沉淀成膜，使得導(dǎo)電層形成。
離子濺射儀為二極結(jié)構(gòu)，通過臺(tái)和樣品架為正電極連接儀器外殼并且接地，負(fù)電極(加負(fù)高壓)為濺射靶電極。其在玻璃罩的真空腔內(nèi)被安裝，當(dāng)腔內(nèi)達(dá)到一定真空度，其中在電場加速下，足夠能量為正離子所獲得來對負(fù)電極上的靶面進(jìn)行轟擊，靶面被濺射原子于基臺(tái)的樣品表面沉淀使得導(dǎo)電膜形成，提供來被上述儀器進(jìn)行分析。
MC1000離子濺射儀由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對掃描電鏡的精細(xì)需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。
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