micro-epsilo工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)光譜共焦傳感器控制器lDT 242x
micro-epsilo工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)光譜共焦傳感器控制器lDT 242x
→ 適合于高速、高分辨率測量位移和距離 | → 納米級分辨率 |
→ 特別適合自動化行業(yè)和生產(chǎn)控制 | → 工業(yè)級控制器,出色的信噪比 |
→ 幾乎不受被測物表面反光特性的影響 | → 探頭不含主動電子元件 |
→ 極小的穩(wěn)定測量光斑 | → 優(yōu)勢:適合工業(yè)化大批量檢測需要 |
實際應(yīng)用中各種被測表面的高精度位移和距離測量
源于光譜共焦測量原理,用戶可以實現(xiàn)超高精度位移和距離測量--同時適用于漫反射和鏡面被測物。超小的測量光斑可以識別微小的幾何尺寸和結(jié)構(gòu)。同軸測量光路避免了陰影遮擋帶來的問題,使光譜共焦位移傳感器可以用于窄縫和深孔。采用90°出光版本光譜共焦傳感器,客戶可以測量深孔或凹槽內(nèi)壁幾何尺寸。
透明物體單側(cè)厚度測量
源于光譜共焦測量原理,用戶可以從一側(cè)測量透明物體的厚度。僅用一支光譜共焦位移傳感器,用戶可以獲得微米級別測量精度。控制器預(yù)存可編輯,可擴展的材料庫。材料的光學(xué)特性,如折射率可以通過網(wǎng)絡(luò)界面存儲和編輯,無需安裝額外軟件。多峰值測量允許多6個峰值,可以測量多層被測物(如夾層玻璃)的厚度。
高分辨率和高測量速度
光譜共焦控制器提供出色的信噪比,確保高精度測量。作為目前的控制器之一,德國米銥光譜共焦位移傳感器特別適合高動態(tài)檢測任務(wù)??焖俦砻嫜a光技術(shù)可以快速調(diào)節(jié)光譜共焦傳感器的曝光時間,以實現(xiàn)對于反光特性快速變化表面的穩(wěn)定測量。輸出端口包括RS422, Ethernet或EtherCAT以及模擬量輸出。
使用簡便的網(wǎng)絡(luò)界面
源自客戶友好的網(wǎng)絡(luò)界面,光譜共焦位移傳感器全部配置過程無需額外軟件。網(wǎng)絡(luò)界面可以通過Ethernet連接,提供設(shè)置和配置選項。材料特性被存儲于可擴展材料數(shù)據(jù)庫中。
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