如何克服因地面振動影響光刻系統(tǒng)的圖案質(zhì)量？

振動對高級浸沒式光刻的影響 

沒有使用STACIS®

在原基座的彈性體或剛性版本上獲得jia模式

使用STACIS®

STACIS主動隔振實(shí)現(xiàn)的模式

        所示的45納米線寬測試圖形是由Amphibian Systems公司生產(chǎn)的*浸入式光刻系統(tǒng)生產(chǎn)的，安裝在德克薩斯州*的SEMATECH公司。圖像之間的差異是由于地震振動對光刻過程的影響。所顯示的圖像是使用掃描電子顯微鏡獲得的。

        該工具初安裝在鋼和混凝土基座上，基座采用鋼支撐結(jié)構(gòu)，其中包含商業(yè)彈性體隔振墊。這個基座沒有達(dá)到工具要求的振動標(biāo)準(zhǔn)，模式質(zhì)量很差。

        為了減少振動，彈性體墊塊被有效地用金屬墊片短路，從而導(dǎo)致更剛性、非共振結(jié)構(gòu)，但這幾乎沒有改善。振動標(biāo)準(zhǔn)不符合任何版本的基座和模式，質(zhì)量仍然很差。

        基座支撐結(jié)構(gòu)被移除，并安裝了STACIS®主動壓電消振系統(tǒng)。STACIS基座被直接放置在現(xiàn)有的底座下面。將工具支撐在STACIS上，顯著降低了整體地震振動水平，并達(dá)到了制造商的地面振動規(guī)范。更重要的是，STACIS在模式質(zhì)量方面提供了顯著的改進(jìn)。

不同配置的振動測量。工具規(guī)格:0.125 mils /s RMS。垂直軸數(shù)據(jù)顯示。

綠色：彈性體減振

白色：短路彈性體減振

藍(lán)色：STACIS減振        

 *由Sematech提供的照片、圖像和振動數(shù)據(jù)。

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