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          譜育科技攜自主創(chuàng)新產(chǎn)品亮相第二十一屆中國國際半導(dǎo)體博覽會

          閱讀:31      發(fā)布時間:2024-11-22
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          11月18日至20日,第二十一屆中國國際半導(dǎo)體博覽會(IC CHINA 2024)在北京·國家會議中心盛大召開。

          譜育科技攜自主創(chuàng)新產(chǎn)品亮相第二十一屆中國國際半導(dǎo)體博覽會

          作為中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會主辦的展覽會,本屆展會以 “創(chuàng)芯使命?聚勢未來" 為主題,聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈、供應(yīng)鏈和超大規(guī)模應(yīng)用市場,全面呈現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展趨向與技術(shù)創(chuàng)新成果,匯聚全球行業(yè)資源。

          來自半導(dǎo)體材料、設(shè)備、設(shè)計、制造、封測和下游應(yīng)用等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)的550余家企業(yè)參展,涵蓋眾多國內(nèi)外半導(dǎo)體企業(yè)。來自美國、日本、韓國、馬來西亞、巴西等國家的半導(dǎo)體行業(yè)組織也分享了當?shù)氐漠a(chǎn)業(yè)動態(tài),并與中方代表展開深度交流。

          聚光科技自主孵化子公司譜育科技應(yīng)邀參展,攜EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)、GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器等多款半導(dǎo)體領(lǐng)域的自主創(chuàng)新產(chǎn)品精彩亮相。展會現(xiàn)場,譜育科技通過實物展示與技術(shù)講解,生動詮釋了產(chǎn)品的核心技術(shù)優(yōu)勢及廣泛應(yīng)用,吸引了眾多專家、客戶、媒體及同行駐足交流。


          面對半導(dǎo)體行業(yè)日益增長的檢測需求,聚光科技及譜育科技依托二十余年在質(zhì)譜、光譜、色譜等前沿技術(shù)領(lǐng)域的深厚積累,積極推出高度定制化、系統(tǒng)自動化的半導(dǎo)體行業(yè)專用創(chuàng)新產(chǎn)品與解決方案,在半導(dǎo)體制程金屬污染檢測、半導(dǎo)體電子特氣泄漏檢測、潔凈室氣態(tài)分子污染物監(jiān)測等應(yīng)用領(lǐng)域,幫助客戶提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,同時為國產(chǎn)科學(xué)儀器在檢測領(lǐng)域的創(chuàng)新發(fā)展注入強勁動力。


          半導(dǎo)體制程金屬離子檢測
          EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

          作為“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項"的重要成果,聚光科技自2013年發(fā)布單四極桿ICP-MS以來,持續(xù)推動技術(shù)升級,成功掌握了多個質(zhì)譜分析技術(shù)平臺,實現(xiàn)了質(zhì)譜“國產(chǎn)替代"規(guī)?;c產(chǎn)業(yè)化。截至目前,7000系列ICP-MS累計下線超1000套,標志著質(zhì)譜儀器在國產(chǎn)替代進程中取得了里程碑式突破。



          EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)是公司基于十余年技術(shù)積累推出的重磅產(chǎn)品,專為半導(dǎo)體行業(yè)痕量元素分析量身打造,已獲國際半導(dǎo)體協(xié)會SEMI S2認證。

          EXPEC 7350系列采用創(chuàng)新的MS/MS模式,有效提升干擾消除能力。結(jié)合三重四極桿設(shè)計高速動態(tài)碰撞反應(yīng)池、直角離子透鏡、垂直等離子體等多項核心技術(shù),產(chǎn)品在檢測靈敏度和穩(wěn)定性上獲得認可,廣泛應(yīng)用于超純濕電子化學(xué)品、電子特氣及碳化硅片等領(lǐng)域,尤其在金屬離子痕量分析方面提供了可靠的解決方案。


          完整的半導(dǎo)體分析配套:百級超凈實驗室

          芯片制造對環(huán)境和檢測設(shè)備要求極為嚴苛,任何顆粒或雜質(zhì)污染都可能導(dǎo)致元件失效,造成巨大損失。譜育科技針對半導(dǎo)體行業(yè)組建專業(yè)團隊,配備百級超凈實驗室,研發(fā)出EXPEC 7350系列整體解決方案。該系統(tǒng)可實現(xiàn)~0.1ppt級別的痕量元素檢測能力,可滿足Grade 5級別及以上超高純試劑中雜質(zhì)檢測需求。通過針對超凈環(huán)境的精準監(jiān)控及高純材料的質(zhì)量檢測,為國產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的穩(wěn)定生產(chǎn)與技術(shù)突破提供了強有力的技術(shù)支撐


          半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域

          • 硅、碳化硅、氮化鎵等晶圓的表面金屬及體金屬的多元素雜質(zhì)的快速檢測;
          • 半導(dǎo)體實驗室分析以及生產(chǎn)制程中高純度濕電子化學(xué)品雜質(zhì)元素檢測;
          • 光刻膠及其相關(guān)溶劑中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測;
          • 高純銅、鋁、鈦、鉭、鉬等高純?yōu)R射靶材中70種以上超痕量雜質(zhì)元素快速檢測;
          • 高純?nèi)谆X、四氯化鈦等復(fù)雜基質(zhì)前驅(qū)體中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測;
          • 高純單晶硅、多晶硅表面金屬雜質(zhì)和體金屬雜質(zhì)元素快速檢測;
          • 高純電子特氣中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測。

          典型應(yīng)用案例:EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 助力半導(dǎo)體企業(yè)高效控制金屬污染

          EXPEC 7350 系列已成功應(yīng)用于多家大型半導(dǎo)體企業(yè)。其中一家專注于寬禁帶半導(dǎo)體材料(如碳化硅和氮化鎵)的研發(fā)與晶片制造,對痕量金屬污染的檢測精度和干擾控制有著嚴格的要求。EXPEC 7350 系列用于該企業(yè)襯底拋光片、外延片及高純試劑中的痕量金屬雜質(zhì)檢測。


          EXPEC 7350系列憑借垂直炬管設(shè)計和MS/MS模式,能夠高效應(yīng)對高基質(zhì)樣品的多原子離子干擾,提供高靈敏度和精準的分析結(jié)果。設(shè)備安裝調(diào)試后,其檢出限、穩(wěn)定性、氧化物產(chǎn)率等性能指標全部通過驗收。經(jīng)過半年使用,設(shè)備表現(xiàn)穩(wěn)定,客戶對其性能及譜育科技的售后服務(wù)給予高度認可。


          半導(dǎo)體電子特氣泄漏檢測
          GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器

          GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器憑借先進智能傳感器技術(shù),可精準偵測40多種半導(dǎo)體特氣,如硅烷、磷烷、三氟化氮等,廣泛適用于半導(dǎo)體制造、光伏電池生產(chǎn)及實驗室等高要求場景。

          設(shè)備采用通用化設(shè)計,兼容多種檢測原理,降低購置成本并提升適配性。內(nèi)置核心處理器支持離線校準,即插即用,顯著簡化維護流程。多樣化供電與通訊方式,如24V直流供電和POE HUB供電,便于實時監(jiān)控。彩色TFT顯示結(jié)合高亮LED和自定義顯示區(qū)域,信息直觀清晰,提升用戶體驗的同時優(yōu)化安全與生產(chǎn)效率。
          典型應(yīng)用案例:GDM-2100 Series半導(dǎo)體用氣體探測器護航12英寸集成電路生產(chǎn)線安全運行

          在國內(nèi)某12英寸集成電路生產(chǎn)線建設(shè)項目中,GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器發(fā)揮著重要作用,助力芯片工廠實現(xiàn)氣體泄漏精準偵測與智能預(yù)警,全面保障生產(chǎn)線的安全穩(wěn)定運行。


          該項目中,譜育科技提供了基于多種檢測技術(shù)原理的高性能氣體傳感器,包括電化學(xué)(EC)和非分散紅外(NDIR)等技術(shù),共選用了30多種不同氣體類型的氣體探測器,覆蓋芯片制造全過程中的有毒有害氣體監(jiān)測需求。

          這些氣體探測器以其高靈敏度和穩(wěn)定性,能夠?qū)崟r監(jiān)測氣體濃度,快速響應(yīng)泄漏事件,多層次的氣體安全防護網(wǎng)。



          潔凈室氣態(tài)分子污染物監(jiān)測 
          AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)

          AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)通過分布式多點采樣器,可搭配國產(chǎn)先進分析儀器,實現(xiàn)對半導(dǎo)體潔凈室酸類(MA)、堿類(MB)、可凝聚物(MC)及揮發(fā)性有機物等的ppb級高精度監(jiān)測,打破國外技術(shù)壟斷。

          AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)中的氣體分析系統(tǒng)采用多種國產(chǎn)分析儀器,集成國標認可的先進技術(shù),包括GC-MS、CRDS、紫外熒光、化學(xué)發(fā)光、GC-PID/FID和紫外吸收法等,可根據(jù)企業(yè)需求靈活定制,滿足多樣化監(jiān)測需求。

          AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)檢出限低至0.1ppb,采樣管路覆蓋范圍達200m,支持網(wǎng)格化分析,實現(xiàn)廠區(qū)環(huán)境實時監(jiān)控。特殊處理管路有效避免樣品吸附與揮發(fā),結(jié)合反吹功能和超標自動留樣至蘇瑪罐驗證,確保數(shù)據(jù)真實可靠。模塊化設(shè)計支持定制化開發(fā),滿足半導(dǎo)體潔凈室及廠區(qū)痕量氣體檢測多樣化需求,為高效生產(chǎn)與環(huán)境安全保駕護航。


          AMC 1000輔助方案:移動推車式AMC監(jiān)測系統(tǒng)

          移動推車式AMC監(jiān)測系統(tǒng)可搭配不同的分析儀或校準儀,實現(xiàn)半導(dǎo)體潔凈室AMC微污染氣體的移動監(jiān)測。推車內(nèi)部搭載大容量電池組,可長時間脫離市電獨立運行,及時檢測排查潔凈室潛在或已有的污染源,可定制觸屏式工控機查看實時監(jiān)測數(shù)據(jù)與歷史數(shù)據(jù)。


          典型應(yīng)用案例:AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)——助力晶圓廠環(huán)境監(jiān)測與生產(chǎn)優(yōu)化

          12英寸晶圓廠采用譜育科技AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng),實時監(jiān)測潔凈室氣態(tài)分子污染物。該系統(tǒng)通過分布式多點采樣器實現(xiàn)連續(xù)多點在線監(jiān)測,并支持移動推車式靈活操作,實現(xiàn)了對酸類(MA)、堿類(MB)、可凝聚物(MC)、揮發(fā)性有機物等ppb級別的精準監(jiān)測,實時反映污染物濃度變化,為潔凈室環(huán)境管理和生產(chǎn)優(yōu)化提供了精準可靠的數(shù)據(jù)支持。


          AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)顯著提升了生產(chǎn)良率,降低設(shè)備損耗,同時優(yōu)化運營成本。通過全面保障晶圓制造環(huán)境的穩(wěn)定性,該系統(tǒng)為企業(yè)生產(chǎn)提供了高效可靠的技術(shù)保障。


          聚光科技始終堅持自主創(chuàng)新,持續(xù)加大研發(fā)投入,專注于攻克技術(shù)瓶頸、突破性能極限,為半導(dǎo)體行業(yè)提供更高效、更精準的解決方案,助力客戶應(yīng)對復(fù)雜挑戰(zhàn)、實現(xiàn)生產(chǎn)優(yōu)化。聚光科技將以技術(shù)深度賦能行業(yè)發(fā)展,以應(yīng)用廣度拓展市場空間,全面提升國產(chǎn)科學(xué)儀器在檢測領(lǐng)域的核心競爭力,為半導(dǎo)體行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展注入強勁動能,為建設(shè)科技強國、加快實現(xiàn)高水平科技自立自強貢獻力量。

          產(chǎn)品展示

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