1200℃實(shí)驗(yàn)還原氣氛爐箱式爐不同氣氛對(duì)硅碳棒的影響隨著需控制真空氣氛爐氣氛要求的增加，關(guān)于在不同氣氛中使用硅碳棒的注意事項(xiàng)也變得越來(lái)越重要。而且，在燒成中與處理物揮發(fā)出來(lái)的各種化學(xué)物質(zhì)之間的反應(yīng)也同樣需要注意。

    所以，針對(duì)特殊氣氛和腐蝕性物質(zhì)，我公司開(kāi)發(fā)了各種防止硅碳棒快速老化的涂層。選用適當(dāng)?shù)耐繉涌梢匝娱L(zhǎng)硅碳棒的壽命。無(wú)論在哪種氣氛中都讓表面負(fù)荷盡量小。

    氣氛影響對(duì)策*涂層水蒸氣和濕氣比在干燥大氣中的使用壽命縮短1/5新真空氣氛爐試運(yùn)行或者舊爐子長(zhǎng)時(shí)間不工作再使用時(shí)，要先低溫充分干燥后再升溫。
   U涂層氫氣硅碳棒溫度上升到1350℃以后電阻急速增加，機(jī)械強(qiáng)度也下降。而且根據(jù)氣體干濕的不同壽命也差別很大。
建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量?。?W/cm2）。
  氮?dú)鉁囟瘸^(guò)1400℃時(shí)氮?dú)馀c碳化硅反應(yīng)生成氮化硅，使硅碳棒變脆，壽命縮短。受露點(diǎn)的影響與氫氣的狀況相同建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量?。?W/cm2）。
  N涂層氨氣（H275%）、（N225%）與氫氣、氮?dú)獾臓顩r相同。
  建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量小。
  N涂層分解反應(yīng)氣體（N2、CO、CO2、H2、CH2混合物）加熱過(guò)程中硅碳棒表面附著分解后的碳黑，造成棒體疏松。
  經(jīng)常向真空氣氛爐輸送空氣，讓多余的碳燃燒。在真空氣氛爐構(gòu)造方面，保持硅碳棒間足夠的間隔以防止短路。
  N涂層硫（S、SO2）硅碳棒溫度升到1300℃以后，硅碳棒表面被侵蝕、電阻急劇增加。
  將硅碳棒溫度控制在1300℃以下。
  N涂層其他由被處理物產(chǎn)生的各種物質(zhì)，如鉛、銻、堿金屬的化合物與硅碳棒反應(yīng)，使其壽命縮短。
  預(yù)先將這些物質(zhì)從處理物中除掉，真空氣氛爐設(shè)排氣口以便減弱其影響。
  H涂層S涂層。

1200℃實(shí)驗(yàn)還原氣氛爐箱式爐常規(guī)規(guī)格表 

 參數(shù)：

標(biāo)準(zhǔn)配件：高溫手套 1雙          坩堝勾    1把

               真空泵    1臺(tái)         說(shuō)明書    1本