目錄:北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司>>低真空鍍膜機(jī)>> VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀
產(chǎn)品簡介： VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸， 樣品臺與濺射頭之間的高度在 30-80mm 之間可以調(diào)節(jié)。安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進(jìn)行預(yù)濺射。濺射頭對樣品的濺射時(shí)間在1-120s 之間可調(diào)，若想獲得薄的薄膜，濺射時(shí)間可以設(shè)置短一點(diǎn)
；若想獲得厚的薄膜，濺射時(shí)間可以長一點(diǎn)。VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀設(shè)計(jì)主要是制作一些金屬薄膜，制膜面積可達(dá)到4英寸。設(shè)備外 形小巧，性價(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀 |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-16-D |
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主要特點(diǎn) | 1 、特別為 SEM 樣品鍍導(dǎo)電性薄膜設(shè)計(jì)。 2、體積小巧，操作簡單，容易上手。 3、擁有小型磁控靶頭，可以鍍金銀鉑等金屬。 |
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| 1、輸入電源： 220V AC 50/60Hz 2、功率： 200W 3、輸出電壓： 500 VDC |
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技術(shù)參數(shù) | 5、濺射時(shí)間： 0-120S 可調(diào) 6、濺射腔體 1）采用石英腔體，尺寸： 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2）密封： 采用不銹鋼平法蘭的 O 形密封圈 7、濺射頭&樣品臺 l）濺射頭可安裝靶材直徑為 2 英寸， 厚度 0.1 - 2.5mm 2）濺射時(shí)間 1-120S 可調(diào) 3）儀器中安裝有直徑為 50mm 的不銹鋼樣品臺， 其與濺射頭之間距離 30-80mm 可調(diào)。 4）可選購加熱型樣品臺，其加熱溫度可達(dá) 500℃ 5）安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進(jìn)行預(yù)濺射 6）制膜的直徑可達(dá):4 英寸（僅供參考，詳情請點(diǎn)擊）
8、真空系統(tǒng) l）安裝有 KF25 真空接口 2）數(shù)字真空壓力表（Pa） 3）此系統(tǒng)可通入氣體運(yùn)行 4）< 1.0E-2 Torr （采用機(jī)械泵） 5）< 1.0E-5 Torr （采用渦旋分子泵） 9、進(jìn)氣 l）設(shè)備上配 1/4 英寸進(jìn)氣口，方便連接氣瓶 2）設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流 10、靶材 l）靶材尺寸要求： Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2）設(shè)備標(biāo)配為銅靶 11、產(chǎn)品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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