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厚度測量重復性0.1% 或更低測厚儀

長處

紅外透射膜厚度監(jiān)測器可測量電池隔膜等半透明片材、黑色光刻膠等低反射膜和硅的厚度。它是一種紅外吸收涂層測厚儀，可應用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。
它是一種紅外薄膜測厚儀，采用由緊湊型鏡面探頭組成的透射光學系統(tǒng)，可通過同時測量 100 多個波長的光譜儀，準確測量薄膜厚度、密度、成分等多個參數(shù)。

1
測量半透明片材、
低反射膜、硅等的厚度，這在光學干涉測量法中是困難的

2
微型光纖探頭
由于使用了 30 毫米的小型反射探頭，
它可以安裝在設(shè)備或生產(chǎn)線的狹小空間內(nèi)。
此外，由于探頭僅通過
光纖連接到主機，因此具有出色的耐環(huán)境性。

3
高速測量：
在
100 個點或更高處同時采樣 950~1650 nm 的近紅外波長
可實現(xiàn)短至 1 毫秒的高速采樣。
可以在生產(chǎn)線上進行實時檢測和測量。
由于干涉濾光片不旋轉(zhuǎn)，因此具有出色的耐用性和可靠性。

4
厚度測量重復性：0.1% 或更低（3σ）

5
兩種可選的測量算法
測量算法校準樣品測量目標
Beer-Lambert 法 1 種僅厚度
最小二乘回歸 2 種或更多類型倍數(shù)（厚度、密度、特定成分的混合量等）

測量算法	校準樣品	測量目標
Beer-Lambert 法	1 種	僅厚度
最小二乘回歸	2 種或更多類型	倍數(shù)（厚度、密度、特定成分的混合量等）

測量示例（鋰離子電池隔膜）

可以同時測量厚度和涂層重量。

測量示例（硅襯底上黑色光刻膠的膜厚）

可以測量硅襯底上黑色光刻膠的薄膜厚度，而使用反射光譜法使用光學干涉涂層測厚儀很難做到這一點
。

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長處

測量半透明片材、
低反射膜、硅等的厚度，這在光學干涉測量法中是困難的

微型光纖探頭

高速測量：
在
100 個點或更高處同時采樣 950~1650 nm 的近紅外波長

厚度測量重復性：0.1% 或更低（3σ）

兩種可選的測量算法

測量示例（鋰離子電池隔膜）

測量示例（硅襯底上黑色光刻膠的膜厚）

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提示

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長處

測量半透明片材、低反射膜、硅等的厚度，這在光學干涉測量法中是困難的

微型光纖探頭

高速測量：在100 個點或更高處同時采樣 950~1650 nm 的近紅外波長

厚度測量重復性：0.1% 或更低 （3σ）

兩種可選的測量算法

測量示例（鋰離子電池隔膜）

測量示例（硅襯底上黑色光刻膠的膜厚）

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提示

測量半透明片材、
低反射膜、硅等的厚度，這在光學干涉測量法中是困難的

高速測量：
在
100 個點或更高處同時采樣 950~1650 nm 的近紅外波長

厚度測量重復性：0.1% 或更低（3σ）