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SIGMAKOKI 長工作距離物鏡 EPLE-50 EPLE-20
SIGMAKOKI 西格瑪 長工作物鏡 EPL-5 EPL-10
SIGMAKOKI西格瑪 管透鏡 TL-NIR-1.0X TL-Y3
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SIGMAKOKI 半導體激光支架 LDH3-635-4.5
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 化工,農業(yè),電子,電氣,綜合 |
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日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-30A
反射物鏡/OBLR-30A
該物鏡由反射鏡構成,不受玻璃折射率引起的色差影響,因此可在350nm至7μm的寬波長范圍內使用。
它可用于顯微光譜和半導體失效分析。
細節(jié)
可以使用安裝在主體中央的校正環(huán)來改變鏡筒長度。
通過這種調節(jié),可以與從80mm到無限遠的各種顯微鏡鏡筒一起使用。
反射鏡的鋁膜上有MgF 2保護膜,可防止反射鏡劣化,可長期使用。
物鏡安裝螺釘采用JIS標準RMS(M20.32 P=0.706),因此可以安裝在多種顯微鏡鏡筒上。
由于可見光、紫外光、紅外光之間焦點位置和圖像尺寸不變,因此可以準確地疊加不可見光圖像和可見光圖像。
反射物鏡/OBLR-10A
該物鏡由反射鏡構成,不受玻璃折射率引起的色差影響,因此可在350nm至7μm的寬波長范圍內使用。
它可用于顯微光譜和半導體失效分析。
細節(jié)
可以使用安裝在主體中央的校正環(huán)來改變鏡筒長度。
通過這種調節(jié),可以與從80mm到無限遠的各種顯微鏡鏡筒一起使用。
反射鏡的鋁膜上有MgF 2保護膜,可防止反射鏡劣化,可長期使用。
物鏡安裝螺釘采用JIS標準RMS(M20.32 P=0.706),因此可以安裝在多種顯微鏡鏡筒上。
由于可見光、紫外光、紅外光之間焦點位置和圖像尺寸不變,因此可以準確地疊加不可見光圖像和可見光圖像。
反射物鏡 (OBLR)
該物鏡由反射鏡構成,不受玻璃折射率引起的色差影響,因此可在350nm至7μm的寬波長范圍內使用。
它可用于顯微光譜和半導體失效分析。
您可以使用安裝在主體中心的校正環(huán)來改變鏡筒長度。通過這種調節(jié),可以與從80mm到無限遠的各種顯微鏡鏡筒一起使用。
反射鏡的鋁膜有MgF 2保護層,可防止鏡面劣化并使其能夠長期使用。
物鏡安裝螺絲采用JIS標準RMS(M20.32 P0.706),因此可以安裝在許多顯微鏡鏡筒上。
由于可見光、紫外光和紅外光之間焦點位置和圖像尺寸不變,因此可以精確地疊加不可見光圖像和可見光圖像。
日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-30A
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