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        1. 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

          當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>1 光刻設(shè)備>> HP100-SE標(biāo)準(zhǔn)型程控烤膠機(jī)

          程控烤膠機(jī)

          參  考  價(jià):面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)HP100-SE標(biāo)準(zhǔn)型

          品牌LEBO/雷博

          廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

          所在地南京市

          更新時(shí)間:2024-09-05 17:09:54瀏覽次數(shù):685次

          聯(lián)系我時(shí),請告知來自 化工儀器網(wǎng)
          LEBO science HP100-SE程控烤膠機(jī),7寸觸屏PLC控,硬質(zhì)陽極氧化鋁面板,優(yōu)異性能,專業(yè)服務(wù),實(shí)驗(yàn)理想之選。

          1.產(chǎn)品概述

          品牌與產(chǎn)地:LEBO science(雷博科學(xué)儀器),產(chǎn)地位于中國江蘇江陰。

          儀器類型:標(biāo)準(zhǔn)型程控烤膠機(jī)。

          型號(hào):HP100-SE。

          2.產(chǎn)品特點(diǎn)

          精確控溫:

          高烤膠溫度可達(dá)300℃(更高溫度可選),控溫精度在±0.2℃以內(nèi),溫度分辨率高達(dá)0.1℃。

          表面溫度均勻性小于1%,確保加熱效果的一致性。

          智能化編程:

          采用七寸全彩觸摸屏操作,界面友好,操作簡便。

          可編輯存貯100組用戶烤膠程序,每組程序可設(shè)置5個(gè)加熱階段,滿足多樣化實(shí)驗(yàn)需求。

          頂升功能:

          帶有接近模式烤膠的頂升功能,方便精確計(jì)時(shí)和上下片拿取。

          頂升調(diào)節(jié)距離可達(dá)30mm,頂升分辨率0.1mm,確保操作精度。

          耐腐蝕與耐用性:

          加熱面板采用耐腐蝕硬質(zhì)陽氧化鋁材質(zhì)或鍍特氟龍耐腐蝕不粘面板。

          全不銹鋼機(jī)身設(shè)計(jì),經(jīng)久耐用。

          特殊設(shè)計(jì):

          特殊的隔熱設(shè)計(jì)和長壽命、高均勻性發(fā)熱部件。

          帶熱輻射保護(hù)蓋,提高烤膠均勻性。

          3.產(chǎn)品參數(shù)

          加熱面板尺寸:220mm*220mm方形

          電源輸入:220V, 1000W(110V可選)

          控溫范圍:室溫-300℃

          溫度分辨率:0.1℃

          控溫精度:±0.2℃

          溫度均勻性:<±2%(部分資料顯示小于1%,以實(shí)際產(chǎn)品為準(zhǔn))

          大設(shè)置時(shí)間:100,000S

          時(shí)間分辨率:0.1S

          頂升調(diào)節(jié)距離:30mm

          頂升分辨率:0.1mm

          外型尺寸:303mm(W)446mm(D)295mm(H)(部分資料顯示為450(D)300(W)295(H),以實(shí)際產(chǎn)品為準(zhǔn))

          重量:25Kg

          4.應(yīng)用域

          LEBO science HP100-SE標(biāo)準(zhǔn)型程控烤膠機(jī)廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、光電子等域,特別適用于旋涂薄膜制備等精密實(shí)驗(yàn)過程。


          有掩膜光刻機(jī)

          1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻,

          無掩膜/激光直寫光刻機(jī)

          無掩膜/激光直寫光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

          電子束光刻系統(tǒng)

          電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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