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參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌LNEYA/無錫冠亞
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無錫市
更新時(shí)間:2023-12-25 20:09:14瀏覽次數(shù):563次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)反應(yīng)釜夾套溫度控制系統(tǒng) 加熱控溫系統(tǒng)裝置
-100~100℃溫度控制系統(tǒng) 工藝過程恒溫系統(tǒng)
反應(yīng)釜盤管制冷加熱控溫系統(tǒng) tcu換熱系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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無錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫
無錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫
無錫冠亞—品牌—疊氦化反應(yīng)設(shè)備tcu控溫
TCU控溫單元ZLF-200N是反應(yīng)釜控溫方面使用比較多的型號(hào),對(duì)于需要購買的客戶來說,了解其功能是非常必要去了解的課題。
TCU溫度控制單元是在化工、制藥等多種行業(yè)需要反應(yīng)釜控制的時(shí)候并使用的,多臺(tái)反應(yīng)釜制冷加熱控溫系統(tǒng)簡(jiǎn)稱TCU。TCU溫度范圍從-25℃200℃,其他溫度范圍需要定制寬(-50℃250℃)般是2~20臺(tái)反應(yīng)釜集中式控制,每臺(tái)反應(yīng)釜均可以立設(shè)定物料溫度、夾套溫度,實(shí)現(xiàn)臺(tái)加熱換熱主機(jī)和多臺(tái)載冷劑控制換熱單元不同臺(tái)反應(yīng)釜目標(biāo)溫度。
TCU控溫單元ZLF-200N更加控制,采用精準(zhǔn)算法控制冷凍介質(zhì)和加熱介質(zhì)進(jìn)入反應(yīng)釜流體閥門的導(dǎo)通角,精準(zhǔn)控制進(jìn)入反應(yīng)釜夾套制冷加熱流體的流量。TCU控溫單元ZLF-200N從高溫往低溫降溫時(shí),和加熱主機(jī)沒有關(guān)系,只是把夾套重點(diǎn)額導(dǎo)熱介質(zhì)溫度降低。
TCU控溫單元ZLF-200N采用超高溫柔性降溫技術(shù),TCU控溫單元可以從高溫250度降溫通入冷卻水過程中,不會(huì)有水蒸氣產(chǎn)生,水溫溫升控制在40度以內(nèi),可以降低換熱器結(jié)垢風(fēng)險(xiǎn)。
TCU控溫單元ZLF-200N在配置上面標(biāo)配為換熱器為板式換熱器,提高冷卻及制冷速率,10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示、USB數(shù)據(jù)導(dǎo)出接口、RS485通信接口、工控組態(tài)軟件,可運(yùn)用工廠現(xiàn)有的制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng),降低投入成本。
TCU控溫單元ZLF-200N是擁有非常寬的溫度范圍,無需更換液體介質(zhì)(見導(dǎo)熱介質(zhì)運(yùn)用),高精度、智能型溫度控制,全密閉系統(tǒng),延長(zhǎng)導(dǎo)熱液體壽命,性能*、。
另外,TCU控溫單元ZLF-200N還可以配置多功能報(bào)警系統(tǒng)和安全功能,如果有需要定制防爆型的TCU,也可以TCU專業(yè)廠家——無錫冠亞,私人訂制TCU。
TCU主要用于反應(yīng)釜集中控溫的,般是配套使用,在使用TCU反應(yīng)釜的時(shí)候,定要注意清洗,要不然會(huì)影響TCU反應(yīng)釜的高效運(yùn)行。
TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗:
TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗的時(shí)候,采用高壓清洗裝置,使用高壓水流通過噴頭沖刷,將反應(yīng)釜內(nèi)壁及攪拌器表面上的堅(jiān)硬垢物擊碎,*剝離并清除掉。
TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓,然后通過伸入釜內(nèi)的清釜機(jī)器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉(zhuǎn)變?yōu)樗鞯膭?dòng)能,通過這個(gè)能量對(duì)壁面污垢進(jìn)行沖擊實(shí)現(xiàn)清洗、清除的效果。
TCU反應(yīng)釜機(jī)械清洗是單純的物理清洗,所使用的介質(zhì)為水,成本非常低,但是效率非常高,高壓水清洗所用時(shí)間短,與手工清洗相比較,能節(jié)省大量人力、物力、財(cái)力,還不會(huì)對(duì)TCU反應(yīng)釜造成損傷。
與原來手工清除相比,年下來能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時(shí)間,若將這部分時(shí)間用于生產(chǎn),將能額外產(chǎn)生可觀的經(jīng)濟(jì)效益。同時(shí),高壓水不會(huì)對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè),高壓水射流清洗已經(jīng)逐步成為清洗方法的主流。
TCU反應(yīng)釜化學(xué)清洗:
TCU反應(yīng)釜在進(jìn)行化學(xué)清洗的時(shí)候,需要知道反應(yīng)釜設(shè)備內(nèi)的垢樣成分,好是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗(yàn),選用清洗劑同時(shí)通過試驗(yàn)確定對(duì)設(shè)備金屬不會(huì)造成腐蝕。然后通過現(xiàn)場(chǎng)架設(shè)臨時(shí)循環(huán)裝置將清洗液在設(shè)備內(nèi)循環(huán)流動(dòng),洗去污垢。
在進(jìn)行TCU反應(yīng)釜清洗的時(shí)候,先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內(nèi)壁,放盡,將溶劑通過加壓裝置流沖刷反應(yīng)釜。如未達(dá)到清洗效果,向反應(yīng)釜中加入適量的溶劑升溫?cái)嚢杌亓鬟_(dá)到清洗要求,然后將溶劑放出, 后用定量的溶劑沖洗反應(yīng)釜內(nèi)壁,放出。
TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除:
TCU反應(yīng)釜人工進(jìn)釜手工清除成本是很低的,但是進(jìn)釜之前需要數(shù)小時(shí)的通風(fēng)換氣,清除過程中還須隨時(shí)監(jiān)視釜內(nèi)氧氣濃度,有缺氧的危險(xiǎn);同時(shí)人工刮鏟除了不能*清理之外,還會(huì)造成反應(yīng)釜內(nèi)壁的滑傷,這些滑痕客觀上造成了殘留物的進(jìn)步附著。人進(jìn)釜清理也會(huì)造成產(chǎn)品衛(wèi)生上的問題。般來說,清理臺(tái)釜所需時(shí)間約為半天天。
TCU反應(yīng)釜清洗的三種方法各有利弊,機(jī)械清洗不會(huì)對(duì)設(shè)備產(chǎn)生腐蝕,對(duì)硬垢可以有效清洗,但是用時(shí)長(zhǎng)、勞動(dòng)強(qiáng)度大;化學(xué)清洗用工少,清洗時(shí)間短,清洗*,但是可能會(huì)造成設(shè)備被腐蝕;人工進(jìn)釜手工清除成本低,但是危險(xiǎn)性較大,不能*清理干凈。因此化學(xué)清洗應(yīng)用在污垢較軟、薄的工況,機(jī)械清洗應(yīng)用在污垢硬、厚的工況。
這三種TCU反應(yīng)釜清洗的知識(shí)希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應(yīng)釜。
高的生產(chǎn)穩(wěn)定性和可重復(fù)性結(jié)果(提高生產(chǎn)產(chǎn)品的穩(wěn)定性)
如果TCU控溫單元ZLF-200N不能滿足大家,另外還有ZLF-35N、ZLF-50N、ZLF-80N、ZLF-125N等系列型號(hào)也可供大家選擇。
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