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二級循環(huán)單元單流體控溫系統(tǒng) TCU大系統(tǒng)
高溫循環(huán)油浴系統(tǒng) TCU多臺反應釜溫度控制
反應釜TCU溫控系統(tǒng)控制系統(tǒng) 加熱循環(huán)裝置
TCU尺寸_安全建議推薦
TCU廠家實力:
無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司致力于制冷設備、超低溫冷凍機、制冷加熱控溫系統(tǒng)、TCU、加熱循環(huán)系統(tǒng)、防爆電氣設備、自動化集成分散控制系統(tǒng)、實驗儀器裝置、工業(yè)冷凍室的開發(fā)、生產和貿易的科技實體。擁有數位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經驗的高素質專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。公司在單機復疊制冷技術研發(fā)方面處于同行業(yè)先水平,高低溫快速升降溫技術研究方面處于先水平。特別是反應釜精確控溫為*的單介質控制 -90度~+250 度連續(xù)控溫,并且精確線性控制反應釜物料溫度。產品溫度范圍涉及-152度到350度。
TCU售后服務:
無錫冠亞設備出廠之前都會經過不少于12小時的負載測試,并且成立專門的售后部、技術部,進行客戶技術指導,大家在購買TCU中遇到任何選型以及技術難題都可以專門的技術部門進行解決。TCU尺寸_安全建議推薦
TCU物流狀態(tài):
TCU設備在出廠的時候,都是采用木架紙箱,由專門的物流公司進行配送,可以確保運輸安全。
其實TCU的品質的好壞,大家在使用TCU段時間都是能有個很明顯的認知,所以購買TCU的時候不要光看價格,還要多看看TCU價格的這些決定因素是哪些,它為什么值得這個價格才是重要的。
溫度控制單元tcu設備介質溫度范圍在-25℃~200℃,當然可根據要求要設計-50℃~250℃的系統(tǒng),在型號上面可以選擇ZLF-25、ZLF-40、ZLF-80、ZLF-120、ZLF-200這四種型號,采用帶前饋PID+動態(tài)控制無模型自建樹算法,來控制反應釜物料溫度,并且顯示各個溫度的實時控制情況。
不同型號的溫度控制單元tcu其接口尺寸、外型尺寸、EX外形尺寸、電源大小這些設置都是有不樣的,具體如下:
ZLF-25接口尺寸新配置DN32,外型尺寸600*900*1450,EX外型尺寸選擇600*1000*1450,電源選擇AC380V 50HZ 2KW(max);
ZLF-40接口尺寸新配置DN40,外型尺寸600*900*1450,EX外型尺寸選擇600*1000*1450,電源選擇AC380V 50HZ 3KW(max);
ZLF-80接口尺寸新配置DN50,外型尺寸800*1250*1600,EX外型尺寸選擇800*1250*1600,電源選擇AC380V 50HZ 4.5KW(max);
ZLF-120接口尺寸新配置DN65,外型尺寸800*1250*1600,EX外型尺寸選擇800*1250*1600,電源選擇AC380V 50HZ 7W(max);
ZLF-200接口尺寸新配置DN65,外型尺寸800*1250*1600,EX外型尺寸選擇800*1250*1600,電源選擇AC380V 50HZ 9KW(max);
在安全方面溫度控制單元tcu具有自我診斷功能,過載電器、熱保護裝置、傳感器故障保護、相序斷相保護器、漏電保護器等多種安全保障功能,大家在使用的過程中,就不用擔心些安全問題,比較安全靠譜。
溫度控制單元tcu除了上述還可以運用于純降溫制冷系統(tǒng),只需要在電氣控制系統(tǒng)面板中按下反方向控制按鈕就可以了。
【簡單介紹】
產地 | 國產 | 產品新舊 | 全新 |
---|---|---|---|
品牌 | 其他品牌 | 是否定做 | 是 |
供應商 | 生產商 | 產品大小 | 小型 |
溫度 | 低溫 | 適用對象 | 其他 |
應用域 | 其他 | 箱門結構 | 單開門 |
制冷方式 | 直冷式 | 能效等 | 2 |
無錫品牌TCU價格表,TCU應用域 過精確快速運算控制整個反應過程溫度,對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制;
使用單流體熱傳遞控溫系統(tǒng)有以下優(yōu)點:
A、用戶可以在個較寬的溫度范圍得到個密閉的、可重復的溫度控制,可實現-120度~300度控溫;
B、避免了傳統(tǒng)設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小;
C、內置電加熱導熱油輔助系統(tǒng),可根據需求自動開啟輔助加熱系統(tǒng),降低蒸汽使用壓力;
D、可以通過快速運行精確配比各熱量需求,達到節(jié)約能源目的;
E、通過精確快速運算控制整個反應過程溫度,對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制;
F、預留有標準化接口,可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊;
G、可選擇控制反應過程溫度和單流體溫度,同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的;
H、可進行配方管理與生產過程記錄;
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