目錄:賽非特科學(xué)儀器（蘇州）有限公司>>制樣設(shè)備>> IB-19520CCP截面樣品制備裝置
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更新時(shí)間：2024-09-01 21:16:52瀏覽次數(shù)：1777評(píng)價(jià)
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| 供貨周期 | 兩周 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子,綜合 |
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IB-19520CCP截面樣品制備裝置★ 冷卻的效果 樣品：鍍鋅鋼板
可提供500μm/h(8KV/2小時(shí)的平均值)的研磨速率
| Specimen: Galvanized iron steel | |
 Normal milling (without cooling) Accelerating voltage 4kV |  Cooled milling (holder temperature -120℃) Accelerating voltage 4kV |
※通常加工（無冷卻）時(shí)，鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙，而冷卻加工時(shí)則沒有間隙。
★使用溫度控制系統(tǒng)（選配件）冷卻樣品：硅晶片接合面。
Normal milling Cooling Cooling temperature control
(without cooling) (holder temperature -150℃) (holder temperature -20℃)
Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV
※常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形，出現(xiàn)了很大的間隙。-150℃時(shí)，冷卻過度，能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙，但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
★合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備。
★進(jìn)程監(jiān)控功能：截面加工狀態(tài)可通過CCD相機(jī)實(shí)時(shí)監(jiān)控，倍率還可調(diào)整。
★防止充放電的噴鍍功能：備有離子束濺射功能（選配項(xiàng)）可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。適合于象EBSD等需要花樣識(shí)別等情況。
★平面離子減薄樣品架以小角度的離子束低角度照射樣品，達(dá)到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。
★截面樣品制備單元安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時(shí)進(jìn)行離子束加工。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
IB-19520CCP截面樣品制備裝置
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