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        1. 深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第1年

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          • Harrick基本型等離子清洗機(jī)PDC-32G-2

            Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的者,我們...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/21 18:55:41 對(duì)比
          • Harrick等離子清洗機(jī)PDC-002

            Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺(tái)式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的主導(dǎo)者,...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/2/21 18:54:13 對(duì)比
          • 美國(guó)Laurell濕法刻蝕顯影機(jī) EDC-650Mz-8NPP

            勻膠顯影機(jī)(英文名:Developing) 產(chǎn)地:美國(guó)一、產(chǎn)品概述:650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面顯影。

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:24:30 對(duì)比
          • M-HP 200 Hotplate 加熱板

            M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)(溫度,加熱...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:22:45 對(duì)比
          • 法國(guó) JFP Model S100鍵合機(jī)

            適用于3英寸晶圓的劃片劃片機(jī) 100是一款*的設(shè)備,設(shè)計(jì)用于劃分精密模具,例如GaAs和硅芯片。劃片機(jī) 100非常靈活,使用劃線和斷裂順序,使成品模具保持清潔,...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:21:33 對(duì)比
          • 美國(guó)FALD原子層沉積系統(tǒng) AT-600

            原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:20:29 對(duì)比
          • 美國(guó) 紫外臭氧清洗機(jī)UVO系列 T10x10/OES

            紫外臭氧清洗工作原理:清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈,產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生,有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:18:56 對(duì)比
          • 美國(guó)蝕刻和剝離系統(tǒng) CESx124

            這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專(zhuān)為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:17:44 對(duì)比
          • 美國(guó) Micromanipulator探針臺(tái) P200L/4060/PM450

            P200L半自動(dòng)探針臺(tái)?200毫米半自動(dòng)晶圓探針臺(tái) 。

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:16:21 對(duì)比
          • 荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150

            真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統(tǒng),可用于開(kāi)發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝??梢源钆浞肿颖脤?shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。溫度1500 ℃,升...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:14:59 對(duì)比
          • 美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)4008

            品牌:恩科優(yōu)(N&Q)型號(hào):NXQ400-8產(chǎn)地:美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:13:26 對(duì)比
          • 美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)8006

            品牌:恩科優(yōu)(N&Q)型號(hào):NXQ800-6產(chǎn)地:美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性,...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:11:53 對(duì)比
          • 美國(guó) 5000-EC Series UV Curing 紫外面光源

            Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源適用于固化光強(qiáng)需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:10:29 對(duì)比
          • 荷蘭4PICO 激光直寫(xiě)光刻機(jī) PicoMaster200

            PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)●250納米分辨率(375納米激光源)●300納米分辨率(405納米激光源)●4095灰階●業(yè)界的成套全息設(shè)計(jì)軟...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:08:48 對(duì)比
          • 荷蘭4PICO 大幅面無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)PicoMaster XF 500-H

            PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫(xiě)設(shè)備,它具有每毫米超過(guò)1200條線的輸出能力,特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:07:05 對(duì)比
          • 美國(guó) 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

            RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:05:33 對(duì)比
          • NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)

            Plasma Cleaner等離子清洗機(jī)NPC-4000(M)等離子清洗機(jī)概述:NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿足晶圓批處理或者單晶...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:04:00 對(duì)比
          • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

            NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達(dá)12...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:02:46 對(duì)比
          • NTE-4000 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)

            NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 12:01:14 對(duì)比
          • LSC-5000 (AD) 全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)

            NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng),用于的無(wú)損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷...

            型號(hào): 所在地:深圳市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2022/5/10 11:59:31 對(duì)比

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