目錄:廈門韞茂科技有限公司>>實驗室常用設備>>磁控測射系統(tǒng)>> QBT-P雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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樣品臺尺寸 | 4寸mm | 應用領域 | 綜合 |
一、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)核心參數(shù):
儀器種類:磁控濺射
產(chǎn)地類別:國產(chǎn)
應用領域:微電子學
基片尺寸:4寸(可定制)
靶材:鉭
基片溫度范圍:RT-900oC
成膜厚度均勻性:基板刻蝕均一性<3%
極限真空:極限真空UltimatePressure<3E-9Torr
二、磁控濺射技術原理:
在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后,并不直接飛向陽極,而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉移能量,使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收,避免高能電子對極板的強烈轟擊,消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫"的特點。由于外加磁場的存在,電子的復雜運動增加了電離率,實現(xiàn)了高速濺射。
三、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)技術特點:
成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好
四、售后服務:
保修期:1年
是否可延長保修期:否
現(xiàn)場技術咨詢:有
免費培訓:1.設備出廠前,提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試
免費儀器保養(yǎng):有需要可安排
保內(nèi)維修承諾:保修期內(nèi)(除天災和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔
報修承諾:質保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應,并在8小時內(nèi)派技術人員到現(xiàn)場解決故障;
五、技術參數(shù):
六、工藝展示: