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參考價	面議

半導體行業(yè)專用儀器

PALD

粉體包覆

PALD廠家

ALD

原子層沉積設備

其他品牌

價格區(qū)間	50萬-100萬	應用領域	綜合

桌面式原子層沉積系統(tǒng)PALD廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

詳細介紹

    一、核心參數：

    價格區(qū)間：10萬-50萬

    產地類別：國產原子層沉積系統(tǒng)（ALD）

    襯底尺寸：4寸

    工藝溫度：RT-300℃

    前驅體數：4組液態(tài)或固態(tài)前驅體

    重量：40KG

    尺寸(WxHxD)：500*400*400mm

    均勻性：99.9%

    二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

    三、桌面式原子層沉積系統(tǒng)PALD廠家產品描述：

    廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設備是*材料研究的有力設備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應用領域，設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項，是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具

    四、廈門韞茂科技有限公司為您提供桌面式原子層沉積系統(tǒng)PALD廠家的參數、價格、型號、原理等信息，產地為福建、品牌為韞茂，型號為MiniDesktopALD，價格為50萬RMB，更多相關信息可咨詢，公司客服電話7*24小時為您服務。

    五、售后服務：

    保修期：1年

    是否可延長保修期：否

    現場技術咨詢：有

    免費培訓：1.設備出廠前，提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現場完成安裝調試

    免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排

    保內維修承諾：保修期內（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔

    報修承諾：質保期內出現故障時我司將及時響應，并在8小時內派技術人員到現場解決故障

    六、技術參數：

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