目錄:沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> 磁控濺射磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)
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更新時(shí)間：2019-12-27 16:02:37瀏覽次數(shù)：2346評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,冶金 |
產(chǎn)品簡介：磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用*的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng)，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
技術(shù)參數(shù) | 卷膜條件 |
鍍膜材料：PET 和無紡布 適用制膜：軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。 基材厚度：125～300μm 有效鍍膜寬幅：≤800 mm 大卷繞直徑：Φ400 mm 卷繞芯軸內(nèi)徑：4 寸 基材卷繞速度：1～2 m/min 基材卷繞張力：30 ～ 200 N 張力系統(tǒng)：交流伺服 濺鍍方式：單面 | |
真空條件 | |
極限真空（空載、潔凈）：8×10-4Pa 恢復(fù)真空時(shí)間（空載、清潔）：105Pa ～ 5×10-3Pa≤60 min 系統(tǒng)真空漏率：1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控濺射陰極數(shù)量：3 個(gè) 膜均勻性偏差：≤±10% |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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