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          北京航天縱橫檢測儀器有限公司>>技術(shù)文章>>電壓擊穿試驗儀測試方法及擊穿理論

          電壓擊穿試驗儀測試方法及擊穿理論

          閱讀:3474        發(fā)布時間:2022-8-16

          1 測試方法及擊穿理論


          采用二電極系統(tǒng)測試試樣的工頻交流擊穿電壓,其上、下電極的直徑分別為 25mm、45mm。為防止電暈放電影響擊穿電壓的數(shù)值,將整個電極系統(tǒng)置于過濾干凈的變壓器油中,并用細砂紙對電極系統(tǒng)進行打磨。旋轉(zhuǎn)升壓器提高電壓直至試樣擊穿,升壓速率為 1kV/s,記錄擊穿時的電壓值。


          擊穿場強是表征材料絕緣性能的重要之指標,定義為試樣發(fā)生擊穿時電壓與試樣厚度的距離之比,以 E 表示平均擊穿場強,計算公式如(4-1)所示。


          航天縱橫電壓擊穿 (1).jpg


          式中:U 為擊穿電壓;d 為試樣厚度。


          通過以上方法得到的擊穿數(shù)據(jù)有一定的離散性,為得到一個確切的數(shù)值表征材料的耐電壓強度,采用Weibull分布模型分析所得到的擊穿數(shù)據(jù)[,如式(4-2)所示。



          式中:E 為測試試樣的擊穿場強;P(E)為試樣在該電場下的失效概率;γ 為形狀參數(shù),表征該試樣擊穿數(shù)據(jù)的離散程度;E0為特征擊穿場強,即 P(E)=63.2%時所對應的擊穿場強。對式(4-2)移項并取對數(shù)可得式(4-3)。



          固體電介質(zhì)碰撞電離擊穿理論指出,在外電場的作用下,可遷移的電子在平均自由行程內(nèi)累積較高的能量,引起碰撞電離,是造成介質(zhì)擊穿的原因。依據(jù)前文對于電導的分析,外界場強較低、溫度較低時,復合材料電導以弱束縛離子離解和離子躍遷為主,由于離子體積大、平均自由行程短,載流子的定向移動過程中獲得的動能小,所引起的碰撞電離有限,無法解釋材料的擊穿現(xiàn)象。


          復合材料發(fā)生碰撞電離擊穿有兩個必要條件,一是介質(zhì)內(nèi)有足夠多可遷移的初始電子,二是電子從外電場中獲得足夠的能量引發(fā)碰撞電離。本文研究的試樣具有高碳化硅含量的特性,禁帶比聚合物窄,試樣初始電子的來源有很大不同;而蒙脫土納米片層的界面區(qū)引入大量陷阱,對電子的自由行程產(chǎn)生影響。低場下,電子脫陷比較困難;高場下,電子有一定幾率通過隧道效應穿越勢壘不損失能量,繼續(xù)在外場作用下累積動能,引發(fā)碰撞電離,導致試樣擊穿。


          2 擊穿特性分析


          圖 4-1、4-2、4-3、4-4 分別為不同微納復合、不同碳化硅晶型、不同碳化硅含量、不同蒙脫土含量試樣的擊穿場強的 Weibull 曲線。


          從測試結(jié)果中可以看出,EP/5M 比 EP 的擊穿場強無明顯的變化,但蒙脫土的引入使復合材料的擊穿數(shù)據(jù)更加集中;EP/α3-S100、EP/β-S100 比 EP 的擊穿場強大幅下降,碳化硅的引入使基體的擊穿場強降低,碳化硅含量越高,擊穿場強越低。EP/5M/α3-S100、EP/5M/β-S100 比 EP/α3-S100、EP/β-S100 的擊穿場強上升,但仍未超過 EP 試樣的擊穿場強,說明蒙脫土的引入有助于提高復合材料的擊穿場強,且擊穿數(shù)據(jù)更加集中;隨著蒙脫土含量的增加,復合材料擊穿場強出現(xiàn)了先升高后降低的趨勢。


          分析認為,強場下因場致電子發(fā)射或熱電子發(fā)射使得介質(zhì)導帶內(nèi)存在一定數(shù)量的電子,晶格被電場中獲得能量加速運動的電子撞擊產(chǎn)生振動。晶格獲得能量振動,電子失去能量動能消失,當兩者存在平衡關(guān)系時,復合材料具有穩(wěn)定的電導率。如前文中所敘述的相同;當電子從電場獲得的能量遠大于晶格獲得的能量時,電子與晶格作用后產(chǎn)生新的電子,介質(zhì)內(nèi)部電子數(shù)量迅速增加,試樣開始發(fā)生擊穿。常溫下,碳化硅內(nèi)雜質(zhì)離子可離解產(chǎn)生電子到達晶粒的導帶,在外電場作用下獲得動能并射入聚合物中。而常溫下聚合物需要更高的場強才能出現(xiàn)初始電子,即復合試樣因碳化硅的引入存在大量初始電子,使 SiC/EP復合試樣的擊穿場強比 EP 試樣低得多。


          測試結(jié)果表明 EP/5M 試樣與 EP 試樣的擊穿場強相近,但并不意味著蒙脫土對環(huán)氧樹脂試樣的擊穿場強沒有影響。蒙脫土加入到基體中,一方面蒙脫土會引入雜質(zhì)離解,提升初始電子的數(shù)量,降低擊穿強度;另一方面界面區(qū)的陷阱可捕獲電子降低初始電子的數(shù)量,從而提高擊穿場強,這一點在高碳化硅含量試樣的擊穿實驗中得到印證。碳化硅提供了大量初始電子,與之相比,蒙脫土引入的電子數(shù)量少,不占主導作用。此時界面區(qū)的陷阱捕獲電子,降低初始電子數(shù)量,導致電子的平均自由行程變小,電子在行程之間獲得的能量變低,無法在與晶格的碰撞過程中產(chǎn)生新的電子,使得 SiC/MMT/EP 微納米復合材料的擊穿場強比 SiC/EP 微米復合材料的擊穿場強大。


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