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          行業(yè)產(chǎn)品

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          [供應(yīng)]MicroWriter ML3-小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)
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          • MicroWriter ML3-小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)
          貨物所在地:
          北京北京市
          產(chǎn)地:
          英國(guó)
          更新時(shí)間:
          2022-03-02 10:22:09
          有效期:
          2022年3月2日 -- 2023年3月2日
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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

          詳細(xì)介紹

          傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法,克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

          MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

          應(yīng)用領(lǐng)域

          小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

          MicroWriter產(chǎn)品特點(diǎn)


          Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能
          Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。



          直寫前預(yù)檢查
          軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過(guò)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。


          標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

          點(diǎn)擊“Bulls-Eye"按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。



          光學(xué)輪廓儀

          MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。


          簡(jiǎn)單的直寫軟件

          MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。



          Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

          +  可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件

          (DXF, CIF, GDSII, 等)

          +  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

          +  書(shū)寫范圍只由基片尺寸決定

          0.4 μm特征線寬曝光結(jié)果


          直寫分辨率1μm


          直寫分辨率0.6μm


          灰度直寫



          微結(jié)構(gòu)/微器件/微電極制備













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