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        1. 北京佳源偉業(yè)科技有限公司

          真空鍍膜機(jī)的特點(diǎn)和使用注意事項(xiàng)

          時(shí)間:2023-5-28 閱讀:785
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          真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
           
          蒸發(fā)鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點(diǎn)如下:
          一、對于蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
          (1)厚度均勻性主要取決于:
          A.基片材料與靶材的晶格匹配程度;
          B.基片表面溫度;
          C.蒸發(fā)功率、速率;
          D.真空度;
          E.鍍膜時(shí)間、厚度大小。
          (2)組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
          (3)晶向均勻性:
          1.晶格匹配度。
          2.基片溫度。
          3.蒸發(fā)速率。
          二、濺射類鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。
           
          真空鍍膜機(jī)鍍膜的時(shí)候必須要注意以下幾點(diǎn)才行。
          (1)真空鍍膜設(shè)備使用一段時(shí)間后,必須要對設(shè)備進(jìn)行清潔維護(hù); 
          (2)規(guī)范操作人員及操作要求,包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等; 
          (3)嚴(yán)格處理襯底材料,做到清潔干凈,合乎工藝要求; 
          (4)源材料符合必要的純度要求; 
          (5)保證設(shè)施設(shè)備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求,環(huán)境溫度濕度要求等; 
          (6)降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、盡量減小室外灰塵侵入。

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